Pfeiffer Vacuum

Helium-Lecksuche an Halbleiter-Produktionsanlagen

 

Viele Hightech-Produkte verdanken wir der Halbleiterindustrie. Ohne sie könnten die in den modernen Kommunikationsmitteln verwendeten Speicherchips und Prozessoren nicht produziert werden. Zu ihrer Herstellung sind hochreine Vakuumbedingungen notwendig, die genauestens überwacht werden müssen.

Nach der Wartung einer Halbleiterproduktionsanlage – einer sogenannten Fab – wird eine Dichtheitsprüfung durch Druckanstiegs-Messung durchgeführt. Erst wenn die Dichtheit der Anlage auch durch diesen integralen Test nachgewiesen ist, erfolgt die Freigabe des Prozesses. Ist der Druckanstieg größer als ein definierter Schwellenwert, wird die Anlage gesperrt. Dann wird mit der Helium-Lecksuche begonnen, um das Leck zu lokalisieren und reparieren zu können. Pfeiffer Vacuum bietet mit seinem breiten Serviceportfolio die optimale Unterstützung durch Experten – auch für die Lecksuche vor Ort. Ein Blick über die Schulter eines unserer Servicetechniker beim Kundeneinsatz.

Download Dokument (PDF ~ 338.4 KB)

Zurück

Kontakt

Haben Sie Fragen oder Anregungen die Sie uns mitteilen möchten?

Senden Sie uns eine Nachricht.

Seitenfunktionen
  • Wie hat Ihnen diese Seite gefallen?

  • Empfehlen Sie diese Seite weiter!

Diese Webseite nutzt Cookies, um bestmögliche Funktionalität bieten zu können. Weitere Informationen