Pfeiffer Vacuum

4.6.5 Harte Prozesschemie

Die Weiterentwicklung von Prozessen speziell in der Halbleiter- und Solarindustrie stellt immer neue Anforderungen an die eingesetzten Vakuumpumpen. Basierend auf der bewährten Technologie der mehrstufigen Wälzkolbenpumpe, bietet Pfeiffer Vacuum mit der H-Reihe die perfekte Lösung für die anspruchsvollsten Prozesse in den oben genannten Industriezweigen. Im Vergleich zu bisherigen Pumpenlösungen wurden Gasdurchsatz bei Prozessdruck, Partikeltoleranz und Kondensationsresistenz deutlich erhöht.

Wie die Pumpen der P-Serie (Process) sind die Pumpen der H-Serie (Harsh Process) mit Temperaturkontrolle und Inertgasspülung ausgestattet. Der Parameterbereich ist jedoch zur optimalen Prozessanpassung deutlich breiter gespannt als bei den Pumpen der P-Serie.

A 203 H Querschnitt

Abbildung 4.14: A 203 H Querschnitt

Grundlage der H-Serie ist der Prozesstrockenläufer A 203 H (siehe Abbildung 4.14), der in drei weiteren Modellen der Serie mit Wälzkolbenpumpen für erhöhtes Saugvermögen und Gasdurchsatz im Prozessdruckbereich ergänzt wird. Die Korrosivgasausrüstung der Pumpen erlaubt durch spezifische Materialien auch den Einsatz stärkster Oxidationsmittel wie NF3. Der breite Temperaturbereich der Pumpen erlaubt die Anpassung an unterschiedlichste Verfahren wie z. B. Wolframabscheidung bei niedrigen Temperaturen oder Nitridabscheidung bei hohen Temperaturen. Ein hocheffizienter Motor führt zu Energieeinsparungen bei niedrigen Drücken und bietet durch das hohe Drehmoment gute Anlaufeigenschaften nach Pumpenstillstand.

A 1503 H Prozesspumpstand

Abbildung 4.15: A 1503 H Prozesspumpstand

Die Modelle der A3H-Serie bieten durch identische Schnittstellen und identische Medienanschlüsse eine optimale Kompatibilität zu den Pumpen der P-Serie. Auch bei Änderung eines Prozesses auf einer bestehenden Produktionsanlage können also optimale Pumpenlösungen mit minimalem Installationsaufwand beim Pumpentausch geliefert werden.

Durch Ergänzung des Modells A 1803 H mit einer dritten Roots-Stufe entsteht ein kompakter, extrem leistungsfähiger Pumpstand mit höchstem Saugvermögen für CVD-Prozesse. Der AD 73 KH setzt eine frequenzgeregelte Wälzkolbenpumpe mit einem nominellen Saugvermögen von 4.500 m³ · h-1 in einem eigenen Rahmen über den Prozesstrockenläufer. Durch den modularen Aufbau ist die Installation einfach und im Servicefall können die Pumpen des Pumpstands einzeln entfernt und gewartet werden. Die Frequenzregelung der saugseitigen Wälz-kolbenpumpe erlaubt eine Anpassung an Prozessparameter in einem breiten Gasdurchsatzbereich und für verschiedenste Prozessgase.

Pfeiffer Vacuum wird die dynamische Entwicklung der Prozesse in unterschiedlichen Industriezweigen auch in Zukunft verfolgen und optimale Pumpenlösungen anbieten. Einen ersten Ausblick erhalten Sie in Kapitel 8, Lösungen zum Kontaminationsmanagement.

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