AMC-Überwachung im Reinraum

Airborne Molecular Contamination (AMC) ist als eine der Hauptursachen für Wafer-Defekte bekannt, die zu Ertragsverlusten in der Halbleiterproduktion führen. AMC in Reinräumen kann durch verschiedene Faktoren erzeugt werden, vom Bediener über den Prozess bis hin zur externen Umgebung. Da die Abmessungen der Chip-Knotenpunkte immer kleiner werden, ist die Überwachung der Reinraumumgebung für die meisten führenden Halbleiterproduzenten ein wichtiges Anliegen. Darüber hinaus ist eine AMC-Überwachung in Echtzeit und mit extrem hoher Empfindlichkeit erforderlich, um Wafer-Defekte zu vermeiden. Pfeiffer Vacuum bietet Echtzeit-AMC-Reinraumüberwachungslösungen mit einer Empfindlichkeit von ppb (parts per billion) bis ppt (parts per trillion) an, die speziell für die Spitzentechnologie in der Halbleiterfertigung entwickelt wurden.

Applikationsanforderungen

  • Kein Platzbedarf im Reinraum
  • Echtzeitüberwachung der Produktion
  • Überwachung mehrerer Produktionsbereiche
  • Überwachung auf (an)organische Verbindungen
  • Überwachung niedriger Verbindungskonzentrationen (100 ppt)
  • Überwachung von EFEMs (Equipment Front End Module)

Hauptprodukte

Wie hat Ihnen diese Seite gefallen?
 

Empfehlen Sie diese Seite weiter!
Social Networks:

Diese Webseite nutzt Cookies, um bestmögliche Funktionalität bieten zu können. Weitere Informationen