Pfeiffer Vacuum

SPM 220, 1-200 amu

Sputterprozess-Gasanalyse im Bereich von 1-200 amu

Produktbeschreibung

  • SPM Ionenquelle zur momentgenauen Prozessüberwachung bis 10-2 hPa
  • Hervorragende Nachweisgrenzen für H2, O2, H2O sowie CO2
  • Minimierter Untergrundeinfluss auf das Messergebnis
  • Kompakte Abmessungen für eine flexible Integration
  • Differentiell gepumpte Version für Drücke bis 10 hPa
  • Leichte und flexible Systemeinbindung durch eine Vielzahl von digitalen und analogen Ein- und Ausgängen
  • Multiplexbetrieb ermöglicht die Datenauswertung mehrerer Massenspektrometersysteme über einen PC

Produkt

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