HiPace® 800
Maximale Vakuumleistung in kompakter Bauweise mit einem Saugvermögen von 790 l/s für N2
Produktbeschreibung
- Minimaler Platzbedarf und maximale Zuverlässigkeit
- Hoher Gasdurchsatz und hohes Saugvermögen
- Industrietauglich durch Schutzart IP54
- Semi S2- und UL/CSA-Zertifizierung
- Maximale Betriebssicherheit durch Überwachung von Betriebsdaten
Standard
- Hohes Saugvermögen und höchste Kompression für alle Gase
- Ideal für alle Standardanwendungen
Typenbezeichnung | Anschlussflansch (Eingang) | Antriebselektronik | E/A Schnittstellen | Integriertes Netzteil | Bestellnummer | |
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HiPace® 800 | DN 200 ISO-K | mit TC 400 | RS-485, Remote | PM P04 300 | ||
HiPace® 800 | DN 200 CF-F | mit TC 400 | RS-485, Remote | PM P04 301 | ||
HiPace® 800 | DN 200 ISO-F | mit TC 400 | RS-485, Remote | PM P04 302 | ||
HiPace® 800 | DN 200 ISO-F | mit TC 400 | RS-485, Remote | PM P04 622 | ||
HiPace® 800 | DN 200 ISO-K | für TCP 350 | PM P04 670 | |||
HiPace® 800 | DN 200 CF-F | für TCP 350 | PM P04 671 | |||
HiPace® 800 | DN 200 ISO-F | für TCP 350 | PM P04 672 | |||
HiPace® 800 | DN 200 ISO-K | TC 400 | RS-485, Remote | JA | PM P04 677 | |
HiPace® 800 | DN 200 CF-F | TC 400 | RS-485, Remote | JA | PM P04 678 | |
HiPace® 800 | DN 200 ISO-F | TC 400 | RS-485, Remote | JA | PM P04 679 |
Prozess
- Prozessgeeignet, unempfindlich gegen Staub
- Ideal für Beschichtungs- und Halbleiterprozesse sowie staubanfällige industrielle Applikationen wie Elektronenstrahlschweißanlagen
Typenbezeichnung | Anschlussflansch (Eingang) | Antriebselektronik | E/A Schnittstellen | Integriertes Netzteil | Bestellnummer | |
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HiPace® 800 P | DN 200 ISO-F | mit TC 400 | RS-485, Remote | PM P04 276 | ||
HiPace® 800 P | DN 200 ISO-K | mit TC 400 | RS-485, Remote | PM P04 790 | ||
HiPace® 800 P | DN 200 CF-F | mit TC 400 | RS-485, Remote | PM P04 791 |