Wir bieten fortschrittliche Lösungen für das Kontaminationsmanagement an, mit denen Halbleiterhersteller Reinraumumgebungen in Echtzeit überwachen können. Durch die frühzeitige Erkennung von Verunreinigungen tragen unsere Lösungen zur Minimierung von Ausbeuteverlusten bei.

Unser Angebot an trockenen Vakuumpumpen umfasst Schrauben-Vakuumpumpen und mehrstufige Vakuum-Booster.

In der Halbleiterindustrie müssen Vakuumumgebungen strenge Reinraumstandards erfüllen. Alle Komponenten, einschließlich der Vakuumpumpen, müssen sehr speziellen, branchenspezifischen Vorgaben entsprechen.

Vakuumniveaus in der Halbleiterindustrie müssen exakt der spezifischen Anwendung, dem Tool und dem Prozess entsprechend ausgewählt werden. Jeder Abscheidungs- und Ätzprozess - wie ALD, PECVD, CVD und PVD – erfordert ein kontrolliertes Vakuumniveau und einen kontrollierten Druck sowie die Kompatibilität mit verschiedenen Prozessgasen.

Ja, Pfeiffer liefert maßgeschneiderte Vakuumsysteme, die auf die spezifischen Anforderungen von Halbleiterherstellern zugeschnitten sind. Wir bieten ein breites Portfolio an zuverlässigen, energieeffizienten Produkten sowie fundiertes technisches Know-how bei der Konzeption von Lösungen für alle Vakuumniveaus – von Atmosphärendruck bis zu Ultrahochvakuum.

Vakuumpumpen spielen eine entscheidende Rolle bei der Aufrechterhaltung der ultrareinen Umgebungen, die für Halbleiterprozesse wie Abscheidung, Ätzen, PVD, Lithografie, Plasmaätzen und ALD erforderlich sind. Indem sie stabile Vakuumbedingungen gewährleisten, tragen sie zur Vermeidung von Verunreinigungen durch Partikel bei und ermöglichen die hohe Präzision, die für die Waferproduktion erforderlich ist.

Vakuum ist für alle Wafertechnologien unerlässlich – von herkömmlichem Silizium bis hin zu fortschrittlichen Materialien wie Siliziumkarbid (SiC) und Galliumnitrid (GaN).

Ja. Wir bieten eine breite Palette an Produkten für die Halbleiterindustrie an – wie Vakuumpumpen und Abgasreinigungssysteme – mit fortschrittlichen Technologien zur Minimierung des Energie-, Stickstoff- und Wasserverbrauchs. Unsere Lösungen sind auf die Nachhaltigkeitsziele der Branche ausgerichtet und helfen Herstellern, ihren ökologischen Fußabdruck zu reduzieren, ohne Kompromisse bei der Leistung einzugehen.

Ein breiter Temperaturbereich ermöglicht es unseren trockenen Vakuumpumpen, verschiedene Prozessgase effektiv zu fördern – von empfindlichen Präkursoren bei niedrigeren Temperaturen bis hin zu kondensierbaren Gasen bei höheren Temperaturen. Diese Eigenschaft trägt dazu bei, Materialablagerungen im Vakuumsystem zu verhindern, was einen stabilen Betrieb, eine höhere Zuverlässigkeit und eine verlängerte Produktlebensdauer in anspruchsvollen Halbleiteranwendungen gewährleistet.

Diese thermische Flexibilität wird durch spezialisierte Bauteile erreicht, die in unsere Produkte integriert sind. Kontaktieren Sie uns, um die beste Lösung für Ihre spezifischen Prozessanforderungen zu finden.