ADPC 302
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Effiziente Überwachung von Partikeln
Partikel in Submikrometergröße können auf den Wafern Schäden verursachen, die zu einem beträchtlichen Ausbeuteverlust führen. Schon kleinste Teilchen mit einer Stärke im Bereich von 0,1 µm sind oft die Ursache für Beschädigungen der Strukturen der Halbleiterchips.
Das innovative ADPC 302 misst die Anzahl der Partikel in Wafer-Transportboxen (Front Opening Unified Pod, kurz FOUP, sowie Front Opening Shipping Box, kurz FOSB). Das patentierte vollautomatische Verfahren erkennt und zählt Teilchen auf der Oberfläche der Transportboxen einschließlich der Türen.
Das System wurde von führenden Halbleiterherstellern qualifiziert und kann sowohl in der Serienproduktion als auch zu Analysezwecken im Bereich Forschung & Entwicklung eingesetzt werden. Anwendungsschwerpunkte sind neben der Transportbox-Charakterisierung eine Optimierung der Dekontaminationsstrategie sowie die Qualitätskontrolle der Reinigung.
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Broschüre Contamination Management Solutions
Die Vorteile des ADPC Kontaminationsmanagementsystems
Das trockene Verfahren (Dry Particle Counter) des ADPC zeigt eindeutige Vorteile gegenüber der herkömmlichen nassen Methode (Liquid Particle Counter). Der Hauptvorteil des trockenen Prinzips liegt darin, dass die Partikelmessung vollautomatisch abläuft. Sie ist in den Herstellungsprozess eingebunden und muss nicht außerhalb der Produktionszeit durchgeführt werden. Durch diese vollautomatische Messung ist kein zusätzlicher Bediener erforderlich. Die Testdauer beträgt nur sieben Minuten. Damit ist das ADPC 302 viermal schneller als herkömmliche Systeme. Es können bis zu acht Transportboxen innerhalb einer Stunde geprüft werden.
ADPC - Kontaminationsmanagement-Systeme
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