EUV (Extreme Ultra Violet: 극자외선) 리소그래피
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사진 평판 공정은 웨이퍼의 각 레이어에 대한 패턴 이송으로 구성됩니다. 빛이 마스크(인쇄할 패턴의 청사진)를 통해 투사된 후 여러 광학 장치를 거쳐 포토 레지스트로 코팅된 웨이퍼 표면에 초점이 맞춰집니다.
지난 수십 년 동안 DUV(Deep Ultra Violet: 원자외선) 기술에서는 대기압에서 파장이 193 nm인 빛을 사용해왔습니다. 그러나 이 기술은 더 낮은 광 파장이 필요해짐에 따라 임계 치수를 낮춰야 하게 되자 한계에 도달했습니다. 그 결과 10 nm 미만의 노드를 위해 EUV(극자외선)라고 하는 신기술을 개발해야 했습니다.
응용 분야 요구 사항
낮은 전력 소비와 긴 유지보수 간격으로 인한 낮은 소유 비용
높은 수소 펌핑 용량
낮은 기본 압력
작은 설치 면적
어떻게 작동합니까?
EUV 기술을 개발하는 데는 20년이 넘게 걸렸는데, EUV 장비는 지금까지 만들어진 가장 복잡한 기계들 중의 하나입니다.(예에서 보듯이 이러한 시스템에는 100,000 개 이상의 구성품이 포함됩니다.) 간단히 말하면 EUV 광원 챔버에서 고출력 레이저 광 펄스(초당 50,000 회)가 주석 방울에 부딪치면서 플라즈마가 생성됩니다. 이 플라즈마가 13.5 nm 파장으로 EUV 광을 방출합니다. 그런 다음 EUV 광이 반사 마스크에 초점을 맞춰 통과한 후 마지막으로 연속된 멀티 레이어 미러들을 거처 웨이퍼에 도달합니다. 어떤 물질이라도 EUV 광을 흡수하기 때문에 이러한 공정은 진공 환경에서 수행해야 합니다.
진공 요구 사항
EUV 광원 챔버에서는 EUV 컬렉터 미러에 주석이 증착되지 않도록 하기 위해 속도가 매우 높은 수소 흐름을 사용합니다. 따라서 수소 펌핑 용량이 높은 일차 건식 펌프가 원하는 압력 레벨을 유지하는 데 사용됩니다. EUV 광이 웨이퍼로 이동하는 스캐너 챔버에서는 터보 펌프가 작동 압력을 매우 낮게 떨어뜨립니다.
제품 포트폴리오
파이퍼 베큠은 이러한 까다로운 요구 사항을 처리할 수 있는 올바른 기술을 보유하고 있습니다. 당사의 고용량 및 고유량 ADH 시리즈 건식 펌프는 출시된 제품 중에서 수소 펌핑 용량이 가장 높고 최신 고용량 HiLobe 루츠 블로워와 함께 사용할 경우 완벽한 세트를 이룹니다.
이차 진공 요구 사항에 대한 솔루션으로서 수소 펌핑 용량이 높은 당사의 무진동 HiPace 및 ATH M 터보 펌프를 사용할 수 있습니다. 추가적으로 당사의 고성능 헬륨 리크 감지기를 사용할 경우 위와 같은 장비 작동 시 가장 엄격한 기밀 조건을 보장할 수 있습니다.
EUV 시스템 자체 외에도 수백 가지의 부품 및 구성품을 진공 환경에서 개발하거나 제조해야 합니다. 파이퍼 베큠은 종합적인 EUV 에코 시스템에 대한 솔루션을 제공하는 주요 진공 공급업체 중 하나입니다. 소형 공랭식 건식 펌프 ACP 시리즈부터 고용량 터보 펌프, DigiLine 게이지 및 진공 구성품에 이르기까지 파이퍼 베큠은 이 응용 분야에 사용할 수 있는 종합적인 진공 솔루션을 공급합니다.
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