Vacuum Technology Book, Volume II

3.4.2 처리 – 청소

깨끗한 표면은 진공 기술의 전제 조건입니다. 모든 불순물은 진공 조건에서 탈착되거나 기체 부하를 유발하거나 구성품 에 퇴적되지 않도록 표면에서 제거되어야 합니다.

예를 들어 초기에는 거친 분진을 제거하 위하여 고압 청소기 를 사용한 전처리가 필요합니다. 이후에는 구성품이 멀티 챔 버 초음파 용기에서 세척됩니다. 최초의 청소는 표면을 청소 하고 그리스를 제거하는 특수 청소기를 추가한 초음파 조건 에서 이루어집니다. 오염물질은 계면활성제로 코팅되어 표 면에서 들어올려져 청소 용기에 들러붙습니다. 청소 용기의 pH는 챔버 재료에 따라 조정되어야 합니다. 다른 용기에서는 사전 헹굼 이후에 뜨거운 탈염수로 완전히 행굼으로써 세제 가 완전히 제거됩니다. 그리고 그 직후 뜨겁고 먼지 없고 탄 화수소 없는 공기 속에서 건조되어야 합니다. 커다란 챔버는 특수 세정제를 추가한 스팀 또는 고압 청소기로 청소됩니다. 이후에는 뜨거운 탈염수로 여러 번 다시 세척한 후 뜨거운 공 기로 건조해야 합니다.

청소가 끝나면 진공 측면 표면은 깨끗하고 보풀 없는 장갑으 로만 만져야 합니다. 사용되는 포장은 PE 플라스틱 필름이 며, 밀봉 표면과 칼날 프로필은 PE 캡으로 보호됩니다.

청소된 구성품의 표면은 여전히 탈기체 소스를 대표합니다. 특별히 흡착된 물 분자와 공기 속에 저장되었다 나온 탄화수 소의 흔적은 UHV의 잔류 기체 소스 중에서 가장 큰 소스입 니다. 이런 것들을 표면에서 효과적으로 제거하기위해 UHV 챔버가 가열됩니다. 지속적인 배출을 위한 1 · 10-6 hPa 미만 의 압력에서 구성품은 약 48시간 동안 150°C~300°C의 온도 로 가열됩니다.

물리 흡착 또는 화학 흡착을 통해 표면에 들러붙은 외부 원자 들은 이런 과정을 통해 열 에너지를 얻어 속박에서 벗어나 표 면에서 배출됩니다. 표면에서 배출된 원자는 진공 펌프에 의 해 시스템에서 제거되어야 합니다. 냉각 후에는 몇 단계 낮아 진 최종 압력에 도달합니다. 챔버가 환기될 경우 표면에서는 분자가 한 번 더 환기됩니다. 건조 질소를 홍수 기체로 삼아 건조한 대기에 짧게 여러 번 노출하는 것은 표면에 물이 생기 는 것을 완전히 막을 수는 없고 줄일 뿐입니다. 허용 가능한 펌프 다운 시간 내에 1 · 10-8 hPa보다 더 작은 최종 압력에 도달하려면 , 또 한 번의 베이크 아웃이 필요합니다.

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