Pfeiffer Vacuum

4.6.3 부하 락과 비부식성 기체

ACP 120은 수냉식 다단계 루츠 펌프의 초보 수준 모델입니 다. ACP 시리즈 펌프는 대량의 부식성 기체의 펌프 다운에 적합하지 않습니다. 그러나 ACP 시리즈 펌프는 최소한 부식 성 기체의 추적을 다루는 데에 사용될 수 있습니다. 이 경우 에 불활성 기체 커튼으로 베어링이 보호되는 곳에 불활성 기 체 퍼지가 사용되고, 공정 기체는 펌프 단계에 불활성 기체를 도입함으로써 희석됩니다.

ACP 120은 독립형 펌프로 작동되거나 이상적인 산업용 솔 루션이면서 반도체 산업용 부식성 기체 버전의 설계로부터 장점을 따온 ACG 600 펌핑 스테이션으로써 루츠 펌프와 결 합하여 작동될 수 있습니다. ACP/ACG 펌프는 그들의 마찰 없는 설계를 통한 세정 공정에 이상적으로 적합합니다. 이들 은 탁월한 장기적 안정성과 긴 정비 간격을 달성합니다

ACP 120

그림 4.12: ACP 120

반도체 산업용 락 펌프는 지정 시 “부하 락”을 나타내는 “L”이 있습니다. 위에서 설명된 ACP 120과는 대조적으로 한 개의 하우징과 한 개의 제어기가 장착되어 있습니다. 주파수 변환 기는 본선 전압과 주파수에 상관 없이 전세계적으로 재생 가 능한 성능 매개변수를 보장합니다.

L-시리즈 펌프는 작동 시간 카운터, 상태 표시등이 장착되어 있어서 국부 및 원격 제어 모드에서 작동될 수 있습니다.

유입구 및 출구 플랜지는 반도체 생산 기계의 제어 유닛에 스 스로롤 연결하게 해주는 입력-출력 인터페이스 뿐만 아니라 펌프 후면에 장착되어 있습니다. 직렬 인터페이스는 예를 들 어 펌프가 모니터링 네트워크에 연결될 수 있게 하기 위하여 선택적으로 이용 가능합니다. 수냉 연결 및 선택적인 에너지 절약 옵션 역시 펌프 후면에 위치해 있습니다(그림 4.13 참조).

펌프 하우징에 통합된 선택적인 에너지 절감 옵션(에너지 절 약, ES)은 펌프 전력 소모를 최대 50% 줄여줍니다. 그 결과 운영자의 소유 비용이 상당히 줄어듭니다. 에너지 절약 이외 에도 A 100 L ES는 7 · 10-4 hPa의 최종 압력에 도달할 수 있 습니다. 잡음 수준 역시 3dB(A) 감소합니다.

A 100 L 후면 연결

그림 4.13: A 100 L 후면 연결

펌프 표면을 깨끗하게 유지함으로써 유닛은 적층될 수 있어 서 반도체 제작 청정실 또는 지하실에서 차지하는 공간을 최 소화할 수 있습니다. 최소 설치 면적, 적층 가능성, 대기압에 서의 높은 펌프 속도, 에너지 절약 옵션, 낮은 최종 압력과 높 은 신뢰성과 장기적 안정성의 결합으로 인하여 L 시리즈는 모든 부하 락 공정에 대한 이상적인 솔루션입니다

낮은 최종 압력과 줄어든 잡음 수준이 L 시리즈를 매력적인 분석, 연구, 개발 어플리케이션으로 만듭니다.