ALE

파이퍼 베큠은 이런 문제를 처리하기 위해 설계된 전체 범위의 터보 펌프 및 기본 건식 펌프를 제공합니다. 당사의 자기 부상 터보 펌프는 무진동 고진공 및 고온/고유량 작동을 제공합니다. 내부식성을 옵션으로 선택할 수 있는 ATH M 시리즈는 최첨단 ALE 공정과 완벽하게 호환됩니다.

당사의 A3XN 또는 A4XN 건식 펌프에는 긴 수명 및 낮은 운영 비용을 위해 증착을 방지하는 내부식성 및 정교한 열 관리를 위한 고급 재료가 사용됩니다.

응용 분야 요구 사항

  • 시간이 지나면서 진공 성능이 향상되면서 산출량을 최적화
  • 고온 작동에 따른 응축 관리
  • 낮은 운영 비용으로 높은 공정 수명: 낮은 전력 소비량, 낮은 수리 비용
  • 고용량 및 고유량의 자기 부상 터보 펌프
  • 설치 면적이 작은 건식 펌프

어떻게 작동합니까?
ALD와 관련하여 ALE 공정 주기에서는 원자로에 반응 가스 및 이온화된 불활성 기체를 순차적으로 주입하며, 일반적으로 플라즈마에 의해 에너지를 공급받습니다.

각 펄스 사이에서, 표면의 전구체 흡착으로 형성된 부산물 및 반응 물질을 배기하기 위해 N2 퍼지가 주입됩니다. 반응은 자연스럽게 자체적으로 제한되기 때문에 에칭 두께는 수행된 주기의 횟수에 의해서만 달라지며, 원자 규모에서 식각된 층을 제어할 수 있습니다. ALE 공정은 일반적으로 단일 웨이퍼 장비에서 수행됩니다.

진공 요구사항
종래의 플라즈마 에칭 공정에서는 식각 재료에 따라 염소 및 불소계 화학물질이 사용됩니다. 새롭게 부상하고 있는 ALE 공정의 경우 또한 몇 가지 증착 단계를 포함시켜 에칭 프로필의 제어를 개선할 수 있습니다. 이 새로운 트렌드는 일반적으로 ALD 또는 CVD 응용 분야에 존재하는 실리콘 전구체의 사용과 관련이 있습니다. ALE 공정은 저압에서, 10-2 ~ 10-3 mbar 범위에서 작동됩니다. 저진공 상태를 유지하기 위해 터보 펌프가 챔버 원자로에 직접 장착되고, 지하에 설치된 기본 건식 펌프의 지원을 받습니다. 가스 흐름이 계속 증가하는 경우, 필요한 터보 펌프 펌핑 용량은 최신 생성 원자로에서 1,600~4,000 l/sec 범위에서 변화합니다. 건식 펌프는 일반적으로 600~1,200m3/h의 펌프 속도를 요구합니다.

배기할 부산물은 응축 가능하고 부식성이 높습니다. 이는 부식성이 매우 높은 환경에서 고온으로 작동할 수 있어야 하는 진공 펌프에게는 커다란 문제입니다.

제품 포트폴리오
파이퍼 베큠은 이런 문제를 처리하기 위해 설계된 전체 범위의 터보 펌프 및 기본 건식 펌프를 제공합니다. 당사의 자기 부상 터보 펌프는 무진동 고진공 및 고온/고유량 작동을 제공합니다. 내부식성을 옵션으로 선택할 수 있는 ATH M 시리즈는 최첨단 ALE 공정과 완벽하게 호환됩니다.

당사의 A3XN 또는 A4XN 건식 펌프에는 긴 수명 및 낮은 운영 비용을 위해 증착을 방지하는 내부식성 및 정교한 열 관리를 위한 고급 재료가 사용됩니다.

주요 제품

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