Pfeiffer Vacuum

다단계 루츠 펌프

청정하고 건조한 응용 분야에 최적의 솔루션

파이퍼 베큠의 다단계 루츠 펌프는 다양한 응용 분야 및 시장에서 사용되는 청정한 건식 진공을 만들어냅니다.
예를 들어 소형 ACP 루츠 펌프는 입자 가속기에서 터보 펌프에 필요한 전진공을 만듭니다. 펌프 속도가 높고 최종 압력이 낮은 대형 ACP 120 펌프는 냉동 건조 응용 분야에서 사용됩니다. A 100, A3P, A4 또는 ADH 시리즈의 건식 펌프는 반도체 및 코팅 산업의 공정 펌프로서 다수가 사용됩니다. 모든 이러한 용용 분야에는 한 가지 공통점이 있는데, 그것은 청정한 건식 진공이 필요한 것입니다. 여기에서 다단계 루츠 펌프의 기술은 완벽한 솔루션입니다. 다단계 루츠 펌프의 마찰 없는 작동 펌핑 모듈은 회전자와 고정자 사이에 윤활제와 밀봉재가 필요하지 않습니다. 따라서 탄화수소 증기 백스트리밍을 피할 수 있습니다. 펌프의 흡입실에서는 밀봉재가 처리되지 않습니다. 이는 펌프에 입자가 없고, 장기간 신뢰성과 안정성이 매우 높으며 따라서 소유 비용이 낮아진다는 것을 의미합니다.

청정 공정에서 다단계 루츠 펌프의 사용 분야
ACP 시리즈의 기냉식 다 스테이지 루츠 펌프는 정비가 거의 필요 없고 일정한 성능이 두드러집니다. 이 루츠 펌프들은 반도체 생산과 플라즈마 세정의 분석 응용 분야 및 청정 공정에서 사용됩니다. 컴팩트한 루츠 펌프 A 100 L과 A 200 L은 크기가 작아 시스템에 쉽게 통합할 수 있습니다. 반도체 및 광전지 생산 시스템의 부하 락과 전송 챔버가 이러한 종류의 펌프에 일반적인 응용 분야입니다. ACP 120 시리즈의 수냉식 다단계 루츠 펌프는 견고한 주조 금속으로 만들어집니다. 루츠 진공 펌핑 스테이션 ACG 600과 같이, 이들은 펌프 속도가 높아야 할 경우 연구개발, 진공 코팅, 금속 공학에 사용됩니다.

부식성 있는 응용 분야도 문제가 되지 않습니다
A3P 시리즈의 다단계 펌프가 반도체 및 광전지 생산의 중형 공정에서 응용 분야를 위해 개발되었는데, 이 분야에서는 부식성이 약간 있는 기체 또는 응축을 운반해야 합니다. 이 펌프는 컴팩트하고 에너지 효율적입니다. 낮은 잡음 발달과 낮은 진동 수준이 이 시리즈의 탁월한 특성입니다. 펌프 속도가 최대 1,800 m3/h인 A4 시리즈의 펌프는 내부식성 재료로 만듭니다. 기체 처리량이 높은 매질 허용치 때문에 이러한 다단계 루츠 펌프는 반도체 산업의 CVD 공정에서 사용할 수 있는 최상의 솔루션입니다. ADH 시리즈는 N2와 H2 모두에 대해 600 ~ 4,500 m3/h의 펌프 속도를 제공함으로써 태양 전지, 반도체 및 LED 시장 등 공정이 까다로운 응용 분야용으로 특별히 개발되었습니다. 이 펌프는 내부의 정적 및 동적 응력에 대한 탁월한 저항성으로 인해 안전이 강화되었습니다.

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