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오염 관리 솔루션 - ADPC

ADPC 302

ADPC 302는 반도체 산업에서 입자 오염 모니터링을 위한 독창적인 공정내 오염 관리 시스템입니다.

효율적인 입자 모니터링
반도체 입자는 상당한 산출량 손실로 이어질 수 있는 결함을 초래할 수 있습니다. 0.1 µm에 불과한 아주 작은 입자라 할지라도 반도체 칩의 구조를 손상시킬 수 있습니다. 혁신적 ADPC 302는 웨이퍼 이송 운반기(FOUP(Front Opening Unified Pod)와 FOSB(Front Opening Shipping Box))의 입자 수를 측정합니다. 특허를 받은 완전 자동 공정에서 도어을 포함하여 운반기 표면의 입자를 찾아내고 계수합니다.

주요 반도체 공장에서 인정을 받은 이 시스템은 연속 생산은 물론 연구개발 분석에서도 사용할 수 있습니다. 주요 응용 분야는 운반기 특성 분석, 청소 전략 최적화, 청소 품질 검사입니다.

이점
ADPC의 건식 공정(건조 입자 카운터)는 전통적인 습식 방법(액체 입자 카운터)에 비해 확실한 이점을 보입니다. 건식 공정의 주요 이점은 입자 측정이 완전 자동화되었다는 점입니다. 이는 생산 공정에 통합되기 때문에 생산 기간 외에 별도의 시간이 소요되지 않습니다. 완전 자동화된 측정 덕분에 공정에 추가 조작원이 필요하지 않습니다. 테스트 시간이 불과 7분에 불과한데, 이는 ADPC 302가 전통적인 시스템에 비해 4배나 빠른 속도입니다. 따라서 한 시간에 8개의 운송 상자를 테스트할 수 있습니다.

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