오염 관리 솔루션 - APA

APA 302

APA 302는 클린룸 환경에서 고급 칩 제조를 위한 독창적인 인라인 모니터링 도구입니다. 이 혁신적 장비가 FOUP와 주변 환경에서 공기 중 분자 오염(AMC)을 측정합니다. 측정은 실시간으로 ppbv 범위에서 고감도로 이루어집니다.

효율적인 오염 모니터링
플루오르화 수소 (HF)와 같은 수분과 공기 중 분자 오염(AMC)이 대기 시간 동안 FOUP의 슬롯간 공간으로 방출됩니다. 이러한 원소가 패턴화된 웨이퍼에 결정체 성장을 생성할 수 있고, 이로써 산출량 손실과 성능 저하로 이어집니다. 파이퍼 베큠의 APA 302는 FOUP 필터를 통해 AMC를 샘플링합니다. 측정은 이온 이동성 분광 분석, 화염 이온화 감지, 형광 UV 또는 공동 광자 감쇠 분광 분석을 통해 2 mn 사이에 ppb 범위에서 고감도로 이루어집니다. 부하 포트에 FOUP가 없는 경우, APA 302가 주변 클린룸 환경을 모니터링합니다.

FOUP 환경의 신뢰할 수 있는 분석
성능을 보장하기 위해 SEMI S2/S8 준수 APA 302에는 일정한 주기로 활성화되는 자동 보정 기능이 탑재되어 있습니다. 웨이퍼 유무와 관계없이 POD에서 APA 내의 AMC 모니터링을 실행할 수 있습니다. FOUP는 2개의 부하 포트에서 수동으로 또는 오버헤드 호이스트 이송장치(OHT)를 통해 이송할 수 있습니다. 따라서 개별 공정 단계간의 대기 시간을 최적화하고, 오염값 증가를 즉시 감지하고 산출량을 높일 수 있습니다.

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