Pfeiffer Vacuum

오염 관리 솔루션

산업용 오염 관리

오염 관리 시스템은 반도체 및 제약 산업을 위해 당사에서 특별히 개발한 신제품입니다. 수년에 걸친 진공 기술 공급업체로서 파이퍼 베큠의 경험이 생산 시스템의 공정, 장비, 환경에 대한 당사의 노하우와 이해를 쌓아왔습니다. 이러한 기식에 기초하여 당사는 각 공정 단계에서 오염을 찾아내어 최소화하고 산출량을 증가시키는 솔루션을 개발했습니다. 결국에는 과학적 이해와 함께 선진 분석이 모듈 수준에서 오염을 방지하는 핵심이라는 것을 당사는 알고 있습니다.

파이퍼 베큠의 오염 관리 솔루션은 민감한 장치 생산의 개별 공정 단계에서 산출량을 개선합니다.

파이퍼 베큠의 혁신적 솔루션

생산에서 품질과 높은 산출량을 보장하기 위해서는 장치의 포장과 직접적 환경에서의 오염물에 관한 지식이 중요합니다.
반도체 산업에서 APA 302를 사용할 경우 공정 주기에서 지속적인 분석이 가능합니다. ADPC 302의 완전 자동 공정은 운반기의 내부 표면에 있는 입자를 찾아 계수합니다. APR 4300은 이보다 한 단계 더 나아갑니다.

오염은 어떻게 발생합니까?

반도체 산업에서 웨이퍼는 이송 및 대기 시간 동안 반응 부산물을 방출합니다. 플루오르화 수소(HF)와 같이 공기 흐름에 의해 운반되는 수분과 분자 오염(AMC: Airborne Molecular Contamination)은 이송 박스(포드 시스템)간의 촘촘한 틈에서 주변 공기(H2O 와 O2)의 산화제와 반응합니다. 이러한 반응 동안, 구조화된 웨이퍼에서 원치 않는 결정체가 성장하기 시작하여 품질 저하로 이어지고 생산 수율이 떨어집니다.

제약 산업에서 습도, 산소 또는 미생물 침투와 같은 오염은 제품 수명주기에 걸쳐 약품의 안정성에 영향을 미칠 수 있습니다.

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