다단계 루츠 펌프

청정하고 건조한 응용 분야에 최적합한 솔루션

파이퍼 베큠의 다단계 루츠 펌프는 다양한 응용 분야 및 시장에서 사용되는 청정한 건식 진공을 만들어냅니다.
소형 ACP 루츠 펌프는 입자 가속기에서 예를 들어 터보 펌프에 필요한 전진공을 만듭니다. 펌프 속도가 높고 최종 압력이 낮은 대형 ACP 120 펌프는 냉동 건조 응용 분야에서 사용됩니다. A 100 L 및 A 200 L은 로드-락 및 이송 챔버용의 컴팩트한 건식 펌프로서, 반도체 시스템 또는 팹 서브 플로어에 통합할 수 있도록 개발되었습니다. A3, A4 및 ADH 시리즈의 건식 펌프는 반도체 및 코팅 산업의 공정 펌프로서 다수가 사용됩니다. 모든 이러한 용용 분야에는 한 가지 공통점이 있는데, 즉 이들은 청정한 건식 진공이 필요합니다.

여기에서 다단계 루츠 펌프의 기술은 완벽한 솔루션입니다. 다단계 루츠 펌프의 마찰 없는 작동 펌핑 모듈은 회전자와 고정자 사이에 윤활제와 밀봉재가 필요하지 않습니다. 따라서 탄화수소 증기 백스트리밍을 피할 수 있습니다. 펌프의 흡입실에서는 밀봉재가 처리되지 않습니다. 이는 펌프에 입자가 없고, 장기간 신뢰성과 안정성이 매우 높으며 따라서 소유 비용이 낮아진다는 것을 의미합니다.

세정 공정에서 다단계 루츠 펌프의 사용 영역
ACP 시리즈의 공랭식 다단계 루츠 펌프는 정비가 거의 필요없고 일정한 성능을 자랑합니다. 이 루츠 펌프들은 반도체 생산의 세정 공정은 물론 산업 또는 입자 가속기 응용 분야에 사용됩니다.

컴팩트한 루츠 펌프 A 100 L과 A 200 L은 크기가 작아 시스템에 쉽게 통합할 수 있습니다. 반도체의 부하 락 및 전송 챔버가 이러한 종류의 펌프가 일반적으로 사용되는 응용 분야입니다.

ACP 120 시리즈의 수랭식 다단계 루츠 펌프는 견고한 주조 금속으로 만들어집니다. 루츠 펌핑 스테이션 ACG 600과 같이, 이 시리즈의 펌프도 펌프 속도가 높아야 하는 연구개발, 진공 코팅, 금속 공학에 사용됩니다.

부식성이 강한 응용 분야에서도 사용할 수 있습니다
A3P 시리즈부터 A4XN 시리즈까지 다단계 펌프가 부식성이 강한 반도체 및 광전지 생산 공정용으로 개발되었는데, 이 공정에서는 부식성이 약간 있는 기체 또는 응축수를 운반해야 합니다. A3P 및 A3XN 펌프는 컴팩트하고 에너지 효율적입니다. 낮은 잡음 발생과 낮은 진동 수준이 이 시리즈의 탁월한 특성입니다. 펌프 속도가 최대 3,000 m³/h인 A4 시리즈의 펌프는 내부식성 재료로 만듭니다.

기체 처리량이 높은 매질 허용치 때문에 이러한 다단계 루츠 펌프는 반도체 산업의 CVD 공정에서 사용할 수 있는 최상의 솔루션입니다. ADH 시리즈는 N2와 H2 모두에 대해 600 ~ 4,500 m³/h의 고성능 펌프 속도를 제공함으로써 태양 전지, 반도체 및 LED 시장 등 가벼운 기체 및 유량이 매우 높은 응용 분야의 공정용으로 특별히 개발되었습니다. 이 펌프는 내부의 정적 및 동적 응력에 대한 탁월한 저항성으로 인해 안전이 강화되었습니다.