거친 부하 공정용 멀티 스테이지 루츠 펌프

A4X 및 ADH 시리즈의 건식 공정 펌프는 반도체, 코팅 및 태양 전지 산업에서 까다로운 공정을 위한 에너지 효율적이고 비용 효율적인 솔루션입니다.

고부하 공정이란 무엇입니까?
고부하 공정은 예를 들어 반도체 및 코팅 산업에서 사용되는 화학 공정입니다. 이 공정은 고부하 공정인데, 왜냐하면 진공에서 주로 공격적이고 부식성 있는 매질이 사용되고 처리되기 때문입니다. 이러한 매질은 공정 시스템의 디자인과 품질에 대한 요구조건이 매우 높습니다. 일반적인 고부하 공정의 예로 식각, 화학 기상 증착법(CVD), 원자층 증착법(ALD)은 물론 금속 유기 화학 기상 증착법(MOCVD)을 들 수 있습니다.

응용 분야에 적합한 버전 선택하기
A4X 펌프 모델은 내부식성 소재를 채택하여 수명을 늘리는 한편 소유 비용을 절감합니다. ADH 시리즈의 펌프는 공정 기체인 N2와 H2 모두에서 펌프 속도가 높아야 하는 까다로운 공정에서 선택할 수 있는 적합한 펌프입니다. 이 펌프들은 수소와 시레인과 같은 폭발성 기체를 사용하는 응용 분야에서 대량의 부산물을 처리하는 한편 안전을 최고 수준으로 높여줍니다.

올바른 장비가 중요합니다
공격적이고 부식성 있는 화학 물질이 고부하 공정에 사용되기 때문에, 진공 펌프와 구성품에는 내부식성이 있어야 합니다. 반도체 및 코팅 산업의 응용 분야의 경우, 가루가 빈번하게 발생하여 진공 펌프에 퇴적할 수 있습니다. 따라서 사용 중인 공정 펌프가 이 분량의 가루에 적합한지 확인해야 합니다. 펌프에 응축되는 걸 최대로 방지하기 위해, 정교한 온도 관리와 결합하여 퍼지 가스를 사용합니다.

파이퍼 베큠의 고부하 응용 분야용 A4X 공정 펌프
파이퍼 베큠은 반도체 및 코팅 산업의 가장 까다로운 공정을 위한 펌프 솔루션으로서 A4X 시리즈를 제공합니다. 이 시리즈는 건식 다단계 루츠 펌프의 입증된 기술에 기초했습니다. 높은 입자 허용치와 결로 저항이 A4 시리즈 펌프의 특성입니다. 컴팩트한 모듈식 구성으로 공간을 절약하면서 기존 시스템에 통합할 수 있습니다. 정비 주기가 길고 에너지 소비가 낮기 때문에 운영 비용을 절감할 수 있습니다.

최신 공정 응용 분야용 고성능 ADH 시리즈의 건식 펌프
ADH 시리즈는 600 ~ 4,500 m3/h의 펌프 속도를 제공함으로써 요구사항이 까다로운 태양 전지, 반도체 및 LED 시장의 공정에서 응용 분야용으로 특별히 개발되었습니다. 이 펌프들은 태양 전지(a-Si와 μ-Si PECVD)와 LED(MOCVD GaN, AlGaAs, AlGaInP…)에 최고의 수소 펌핑 효율을 제공하고, 반도체 응용 분야(ALD, 에피택시 및 EUV)에서 최저의 운영 비용으로 높은 H2 펌프 속도를 제공합니다.

장점

  • 최대 4,500 m3/h의 펌프 속도
  • 50 및 60 Hz 전원 공급에서 동일한 성능을 제공합니다.
  • 낮은 전력 및 물 소비량으로 인한 낮은 운영 비용
  • 높은 파우더 이송 용량
  • 긴 정비 주기
  • 다단계 루츠 기술, 고효율 모터, 전기 히터의 제한적 사용 덕분에 에너지 효율이 높음
  • 높은 입자 허용치로 공구 가동 시간을 늘림
  • 펌프 작동 조건의 정확한 제어를 위해 확장된 모니터링 기능 및 유휴 모드 기능
  • Semi S2-0712 및 UL 61010 준수

응용 분야

  • 반도체(식각, PECVD, SACVD ALD, 에피택시 및 EUV)
  • 평판 디스플레이(FPD)
  • 태양 전지(a-Si와 μ-Si PECVD)
  • LED(MOCVD GaN, AlGaAs, AlGaInP…)
  • 코팅 산업: 광전지 및 LED
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