경부하 응용 분야용 다 스테이지 루츠 펌프

경부하 공정에서는 점점 더 청정하고 건조한 진공이 필요합니다. 파이퍼 베큠의 다단계 루츠 펌프는 반도체 시장의 백엔드 및 공정 모니터링뿐만 아니라 산업 및 연구개발 응용 분야에 이상적인 솔루션입니다.

경부하 공정용 건식 펌프
건식 다단계 루츠 펌프의 입증된 기술에 기초하여, 파이퍼 베큠은 경부하 공정에 사용되는 광범위한 펌프를 제공합니다. 이 응용 분야에 사용되는 펌프의 가장 중요한 특징은 펌프 수명 동안 일정한 성능과 견고성, 높은 신뢰성입니다.

ACP 시리즈의 공랭식 다단계 루츠 펌프
ACP 시리즈의 다단계 루츠 펌프는 대기압에서 3 · 10^-2 hPa까지의 압력 범위에서 사용되는 무유 및 무입자 응용 분야용 펌프입니다. 공랭식 펌프는 로터리 베인 펌프를 대체할 수 있는 최적의 펌프입니다.

특별하게 개발된 G 버전의 펌프는 소량의 부식성 기체를 운반하도록 설계되었습니다. ACP 시리즈의 이 버전은 이송 챔버, 공정 모니터링 시스템, 이온 빔 응용 분야에 권장됩니다. 공랭식 ACP 시리즈의 CV 버전의 수증기 용량은 시간당 최대 1,000 그램입니다. 이 버전은 펌프 블록에서 증기 응축을 피하도록 설계되었습니다.

표준 버전을 기반으로 하여 특정한 요구사항에 맞춰 개발한 몇 가지 더 특정한 ACP 펌프 버전이 있습니다.

• 무불소 펌핑 솔루션인 SH 및 R 버전
• 핵 방사선에 대한 내성이 있는 R 버전
• 고가 기체의 재활용 또는 회수하는 CP 버전

산업 응용 분야용 ACP 120 G 및 ACG 600 G
전 세계에 걸쳐 설치된 수만 대의 반도체 공정 펌프를 보면, ACP 120 G가 산업 응용 분야에서도 다단계 루츠 펌프의 이점을 제공합니다. 수랭식 펌프에는 약간 부식성이 있는 공정용 또는 응축 가능한 매질을 펌프 다운하는 퍼지 가스 라인이 장착되어 있습니다. ACP 120은 루츠 펌프가 장착된 다른 펌핑 스테이션에 결합할 수 있습니다. 루츠 펌핑 스테이션 ACG 600 G는 장식 또는 공구 코팅에서 진공 솔루션으로서 윤활제를 전혀 사용하지 않는 펌핑 시스템의 기초로 사용됩니다.

컴팩트한 건식 펌프: A 100 L과 A 200 L
컴팩트한 건식 펌프 A 100 L과 A 200 L은 비용을 절감하면서 반도체 생산 시스템에 통합하도록 개발되었습니다.
A 200 L은 로드/락 펌핑의 짧은 고부하 주기를 견디도록 최적화되었습니다.

응용 분야

• 로드 락
• 이송 챔버
• 스퍼터링
• PVD
• 계측학