Pfeiffer Vacuum

普发真空提供两种基本的质谱仪型号:

  • 紧凑型 PrismaPlus,具有 6 mm 直径的杆系统,长度为 100 mm,以及
  • 高分辨率 HiQuad,质量过滤器直径为 8 mm 和 16 mm, 长度为 300 mm。

PrismaPlus

这是一个紧凑型设备,其整个电子装置被连接到分析仪,且 可以拆下来进行烘烤。PrismaPlus 提供以下功能:

  • 质量范围 100、200 和 300 u
  • 法拉第杯和 C-SEM 可用作探测器
  • 可以配备各种离子源和金属丝
  • 分析仪可以在高达 300%deg;C 的温度下烘烤

PrismaPlus 可用作独立设备,也可以集成到模块和分析系统 中。

HiQuad

这些设备提供最高的精度,并具有以下特点:

  • 不同的型号涵盖质量范围 1–16 u、1–128 u、1–340 u、1–300 u、1–512 u、1–1,024 u 和 1–2,048 u。
  • 不同的质量过滤器具有杆直径:6 mm、8 mm 钼、8 mm 不锈钢和 16 mm钼
  • 上述所有离子源几乎都可以与分析仪相结合。
  • 有用于分析中性粒子以及正负离子 (SIMS) 的离子光学元 件。
  • 所有类型的探测器,即:法拉第杯、法拉第杯和 SEM、法 拉第杯和 C-SEM 以及离子计数器,可提供各种配置。
  • 这些质谱仪可以凭借输入/输出模块集成到分析系统。

模块

模块是特殊的过程监控或气体分析设备,其配备了各种进气 系统并连接到用于排空分析仪的空运行涡轮拖式泵站:

  • HPA 220 高压分析仪,基于 PrismaPlus。过程压力可达 50 hPa,提供手动和自动进气系统
  • SPM 220 溅射工艺监控器,基于 PrismaPlus。通过各种 进气口选项,过程压力可达 10-2 hPa or 10 hPa 或 10 hPa
  • SPM 700 溅射工艺监控器,基于 HiQuad。与 SPM 220 具有相同的过程压力
  • EPD 700 用于在气相蚀刻时检测正离子,基于 HiQuad。 过程压力可达 10-2 hPa

台式质谱仪

普发真空具有基于 PrismaPlus 的完整系统,用于在气压下分 析气体、。优化的进气系统使用封闭式离子源,以获得最大 的检测灵敏度。

  • OmniStar GSD 320 O 具有加热和温度调节进气系统,用 于在气压下的定量气体分析。
  • ThermoStar GSD 320 T 经设计与热重分析仪耦合。使用 石英毛细管,允许高温样气进入。惰性石英表面防止表面 反应,因此避免了测量结果的歪曲。

这些设备或其元件由 OEM 客户在完整设备中进行安装,其 可能具有广泛的附加功能,如待分析物质的上游处理(如气 溶胶的蒸发)或供应校准气体混合物进行自动校准。

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