Pfeiffer Vacuum

6.3.6 应用说明

质谱仪分析因真空应用不同而呈现非常小的变化。上述具有 加热毛细管的进气系统用于压力范围高达气压内的气体分 析。气流可以直接被引导到气密离子源,以减少真空环境的 背景噪音。气体束穿过交叉束离子源,射入真空泵或陷阱。

具有进气系统和交叉束离子源的 QMS

图 6.18: 具有进气系统和交叉束离子源的 QMS

具有不同进气口的差动排气 QMS

图 6.19: 具有不同进气口的差动排气 QMS

如果压力范围 $p$ < 10 hPa (蚀刻、溅射或其他涂层工艺), 则允许气体通过孔或阀进入质谱仪。涡轮泵被连接到测量系 统,用于降低压力。有专门的版本适用于腐蚀性气体。

在极低压力下,特别是在 UHV 范围内,使用开放式离子源, 其具有特别小的表面积,因此具有低出气率(网格离子源) 。由于气体密度低,垂直于四级杆轴布置的二次电子倍增器 (SEM) 必须用作探测器。为改善信噪比,抽空流入中性粒子 的涡轮泵被连接到 SEM 的反面。

二次粒子质谱法 (SIMS) 代表一种特殊情况。在该过程中,粒 子被发射到表面上,而该表面反过来释放带正电荷或负电荷 的二次离子。这些都是由 QMS 直接检测而无需离子源。上 一节中所描述的测量装置也用在该情况下。

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