Pfeiffer Vacuum

镀膜工艺监测器 SPM 220

10-2 hPa 的即时镀膜工艺气体分析

真空镀膜工艺监测器 SPM 220 为镀膜工艺的定性和定量气体分析提供了完美的解决方案。HiPace 涡轮分子泵组和质谱仪系统的组合加上专门开发的镀膜工艺监测器离子源,在高达 10-2 hPa 的压力下,实现了精确到分钟的工艺气体分析。

普发真空还提供了一个带有压差孔板法兰的版本作为选择,使得在高达 10 hPa 的压力范围里进行直接的工艺气体分析成为了可能。

产品优势

  • 用于瞬时过程监测的镀膜工艺监测器离子源
  • 用于 H2、O2、H2O 和 CO2 的优秀检测限
  • 对测量结果的最小化背景影响
  • 压力高达 10 hPa 的压差版本
  • 多重操作允许带单个 PC 的多个质谱仪系统进行数据评估
  • 灵活集成的紧凑尺寸
  • 通过各种数字和模拟输入和输出,使系统集成方便而灵活

应用

  • 在高达 10-2 hPa 的压力下,镀膜工序的分析可精确到分钟
  • 真空镀膜系统的制造商和操作员
  • 半导体生产
  • 玻璃镀膜
  • 薄膜太阳能电池发电
  • 研发

在压力范围高达 10 hPa 下的气体分析

HPA/SPM 宣传册

Page functions
  • 您如何评价此页?

  • 推荐此页!

为了令您更好的体验我们的网站,我们使用cookies技术。 更多信息