가혹한 화학 응용 분야를 위한 다단계 루츠 펌프

반도체, 코팅, 태양광 산업용 프로세스 펌프

가장 까다롭고 가혹한 화학 응용 분야를 위한 파이퍼 베큠의 다단계 루츠 펌프의 탁월한 내구성과 효율성을 알아보고 부식성 문제로부터 안정적인 성능과 보호를 보장합니다.

열악한 응용 분야에서 다단계 루츠 펌프의 장점

다단계 루츠 펌프는 열악한 응용 분야에서 탁월한 이점을 제공하여 견고성과 적응성을 입증합니다. 부식성 가스에 대한 내성과 까다로운 환경을 처리할 수 있는 능력을 갖춘 이 펌프는 신뢰할 수 있고 안정적인 진공 성능을 제공합니다. 펌핑 모듈 내부에 마모 부품이 없기 때문에 장기적인 안정성이 보장되고 유지 관리 요구 사항이 최소화되어 운영 비용이 절감됩니다. 부식성 및 공격성 매체가 널리 퍼져 있는 혹독한 화학 공정에서 다단계 루츠 펌프는 깨끗하고 오염되지 않은 진공 환경을 유지하면서 효율성과 생산성 향상에 기여하는 최적의 선택임이 입증되었습니다.

Brochure: A4 Series

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올바른 다단계 루츠 펌프 선택: 가혹한 화학 응용 분야와 매우 가혹한 화학 응용 분야

다단계 루츠 펌프

가혹한 화학 분야용

반도체 및 코팅 공정에서 화학 응용 분야는 가혹한 환경부터 극도로 혹독한 환경까지 다양하며 각각 고유한 과제를 안고 있습니다. 부식성 가스와 까다로운 조건이 만연한 가혹한 화학 응용 분야의 경우 파이퍼 베큠의 A4 시리즈 다단계 루츠 펌프는 이상적인 선택입니다. 이 펌프는 소량의 부식성 가스를 처리할 수 있도록 장착되어 있어 효율적이고 안정적인 작동을 보장합니다.

이 비디오에서 A4 시리즈 다단계 루츠 펌프의 작동 원리를 알아보세요.

A4H 시리즈: 중간 작업 공정을 위한 에너지 효율적인 건식 펌프 솔루션

파이퍼 베큠의 A4H 시리즈는 반도체 및 코팅 산업의 중간 작업 공정을 위한 에너지 효율적인 건식 펌핑 솔루션을 제공합니다. 사용 가능한 7가지 모델, 100~3,000m³/h 범위의 펌핑 속도 및 고급 모니터링 기능을 갖춘 A4H 시리즈는 펌프 작동 조건을 안정적이고 정확하게 제어합니다. 까다로운 공정을 위해 설계된 이 펌프는 높은 가스 처리량, 향상된 입자 내성, 낮은 작동 온도와 높은 작동 온도에 대한 고급 온도 관리 기능을 갖추고 있습니다. Semi S2 및 UL 61010 표준을 준수하는 A4H 시리즈는 운영 비용을 절감하고 공정 신뢰성을 향상시키기 위한 최적의 선택입니다.

열악한 응용 분야를 위한 부식 방지 A4X 시리즈 건식 펌프

파이퍼 베큠의 A4X 시리즈는 혹독한 반도체 공정을 위한 에너지 효율적이고 부식 방지 건식 펌핑 솔루션을 제공합니다. 4가지 모델이 제공되고 펌핑 속도가 160~3,000m³/h인 A4X 시리즈는 내식성 소재를 사용하여 내구성을 높이고 온도 관리를 확장하여 전구체 균열이나 응축성 침전물을 방지합니다. Semi S2-0712 및 UL 61010 표준을 준수하는 A4X 시리즈는 운영 비용을 줄이고 프로세스 신뢰성을 높이는 최적의 솔루션입니다.

다단계 루츠 펌프

부식성이 매우 높은 응용 분야용

완벽한 내식성과 탁월한 내구성을 갖춘 XN 펌프는 부식성이 높은 환경의 요구 사항을 충족하여 최적의 성능, 수명 및 안전성을 보장합니다. 반도체 및 코팅 산업의 대부분 응용 분야의 요구 사항을 충족하는 XN 제품군은 600~2,900m³/h의 펌핑 속도를 제공하여 폴리 에칭과 같은 가장 혹독한 부식성 응용 분야에서 최대 5배 더 긴 수명과 함께 향상된 수명과 견고성을 제공합니다. 이 펌프는 넓은 작동 온도 범위, 높은 평균 고장 시간, 낮은 소유 비용을 특징으로 하므로 다양한 정도의 화학적 공격성을 다루는 반도체 및 코팅 응용 분야에 적합합니다.

파이퍼 베큠의 다단계 루츠 펌프 XN 버전의 특별한 기능에 대해 알아 보십시오.

부식 방지 공정 펌프 A3XN

A3XN 건식 펌프는 가장 가혹한 부식성 응용 분야에서 최대 5배 더 긴 수명을 제공하고 이전 펌프 기술에 비해 최대 50%의 에너지 절감 효과를 제공하도록 설계되었습니다. 작은 설치 공간, 가벼운 디자인 및 고급 모니터링 기능을 갖춘 A3XN 시리즈는 펌프 작동 조건을 정밀하게 제어합니다. 식각 및 High-K 공정과 같은 반도체 응용 분야에 이상적인 이 다단계 루츠 펌프는 까다로운 산업 환경의 가혹한 공정에 대해 뛰어난 내식성과 신뢰성을 제공합니다.

A3XN 펌프는 이전 A3P 시리즈와 호환됩니다.

높은 건식 펌프A4XN

160~2,900m³/h의 광범위한 건식 펌프 솔루션을 갖춘 A4XN 시리즈는 PECVD, SACVD 및 ALD를 포함한 까다로운 반도체 제조 공정을 위해 설계되었습니다. 이 펌프는 내부식성을 높이기 위한 니켈 코팅 기술을 갖추고 있어 수명 연장과 낮은 소유 비용을 보장합니다. A4XN 시리즈는 고효율 모터와 제한된 전기 히터 사용으로 최적의 에너지 효율을 제공합니다. Semi S2-0712 및 UL 61010 표준을 준수하는 이 펌프는 고급 모니터링 및 유휴 모드 기능을 갖추고 있어 최대 성능을 위해 펌프 작동 조건을 정밀하게 제어할 수 있습니다.

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