PVD (Physical Vapor Deposition)

Die physikalische Gasphasenabscheidung (Physical Vapor Deposition; PVD) beschreibt eine Vielzahl von Vakuumabscheideverfahren, die zur Herstellung dünner Schichten verwendet werden können. Diese Technologie wird in der Halbleiterfertigung zur Herstellung ultradünner Deckschichten, Metall-Gate-Schichten in High-k/Metall-Gates für fortschrittliche Transistoren und zur Bildung ultradünner Barrierematerialien sowie Saatschichten für Verbindungen verwendet.

Applikationsanforderungen

  • Niedrige Betriebskosten durch geringen Stromverbrauch und lange Wartungsintervalle
  • Niedriger Basisdruck

Wie funktioniert es?
Der am häufigsten verwendete PVD-Prozess ist die Sputtertechnologie: Das Targetmaterial wird mit dem im Plasma erzeugten Ionen eines Inertgases (meist Argon) bombardiert. Die von der Targetoberfläche herausgeschlagenen Teilchen scheiden sich dann auf dem Substrat ab.

Vakuumanforderungen
Ein solcher Prozess arbeitet in einem Hochvakuum im Bereich zwischen <10-3 bis < 10-7 Torr und erfordert den Einsatz von trockenen Vorvakuumpumpen, Turbopumpen sowie Kryopumpen. Da es sich hier um eine nicht chemische Reaktion handelt, erzeugt dieser Prozess keine Ablagerungen und man spricht daher von einer sauberen Anwendung für Vakuumpumpen.

Produktportfolio
Mit der A4H-Baureihe bietet Pfeiffer Vacuum eine vollständige Palette von trockenen Pumpen und magnetgelagerten Turbopumpen speziell für PVD-Anwendungen. Unsere ATH M-Turbopumpen haben sich auf vielen PVD-Anlagen großer OEMs bewährt.

Hauptprodukte

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