AMC- und Partikelüberwachung im FOUP

Airborne Molecular Contamination (AMC) sowie Partikel sind als eine der Hauptquellen für Wafer-Defekte bekannt, die zu Ertragsverlusten in der Halbleiterproduktion führen. FOUPs (Front Opening Universal Pods) werden für den Transport von Wafern zwischen den Prozessanlagen verwendet. Da Wafer fast 70 % ihres Herstellungszyklus in FOUPs verbringen, ist die Überwachung von AMC und Partikeln in FOUPs entscheidend, um eine maximale Produktionsausbeute zu erreichen. Darüber hinaus sollten die Systeme so angeordnet sein, dass Verunreinigungen in allen Phasen des Produktionszyklus erkannt und Mittel für Abhilfemaßnahmen bereitgestellt werden können, bevor ein „Killerdefekt“ auf den Wafern auftritt. Pfeiffer Vacuum bietet eine breite Palette von In-Line-Überwachungssystemen an, die sowohl für die Spitzentechnologie in der Halbleiterproduktion als auch für Forschungs- und Entwicklungszentren bestimmt sind.

Applikationsanforderungen

  • Ermöglicht die Untersuchung der Optimierung von FOUP-Wartezeiten
  • Ermöglicht das Hochfahren von Prozessanlagen
  • Ermöglicht die Bearbeitung von Wafern für die Anlagenanpassung
  • Ermöglicht es festzulegen, ob ein FOUP gereinigt werden soll --> optimierte Verwendung des FOUP-Reinigers
  • Ermöglicht die Effizienz der FOUP- Reinigers festzustellen

Hauptprodukte

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