Mehrstufige Wälzkolbenpumpen
Die optimale Lösung für saubere und ölfreie Anwendungen
Mehrstufige Wälzkolbenpumpen von Pfeiffer Vacuum produzieren sauberes und ölfreies Vakuum für die verschiedensten Anwendungen und Märkte.
Kleine ACP-Wälzkolbenpumpen erzeugen beispielsweise in Teilchenbeschleunigern das nötige Vorvakuum für Turbopumpen. Große ACP 120-Pumpen mit ihrem hohen Saugvermögen und niedrigen Enddruck finden in der Gefriertrocknung Anwendung. Die kompakten Trockenläufer A 100 L und A 200 L für Schleusen- und Transferkammern wurden für die Integration in Halbleitersysteme oder Halbleiterproduktionsanlagen entwickelt. Trockenläufer der A3, A4 und ADH Serien werden in großen Stückzahlen als Prozesspumpen in der Halbleiter- und Beschichtungsindustrie eingesetzt. Alle diese Anwendungen haben eines gemeinsam: Sie benötigen sauberes und ölfreies Vakuum.
Die Technologie der mehrstufigen Wälzkolbenpumpen ist hier die optimale Lösung. Bei dem berührungslos arbeitenden Pumpenmodul sind Schmiermittel und Dichtungsmaterial zwischen Rotor und Stator nicht notwendig. So kann die Rückströmung von Kohlenwasserstoffen vermieden werden. Im Schöpfraum der Pumpen sind keine Dichtungsmaterialien verarbeitet. Damit sind die Pumpen partikelfrei, extrem zuverlässig, langzeitstabil und zeichnen sich zudem durch geringe Betriebskosten aus.
Einsatzbereiche für mehrstufige Wälzkolbenpumpen in sauberen Prozessen
Luftgekühlte mehrstufige Wälzkolbenpumpen der ACP-Baureihe sind sehr wartungsarm und zeichnen sich durch ihre konstante Leistung aus. Sie werden in industriellen Anwendungen und Teilchenbeschleunigern sowie in sauberen Prozessen der Halbleiterherstellung eingesetzt.
Die kompakten Wälzkolbenpumpen A 100 L und A 200 L lassen sich aufgrund ihrer geringen Abmessungen leicht in Anlagen integrieren. Schleusen und Transferkammern von Halbleiter-Produktionsanlagen sind klassische Einsatzgebiete für diesen Pumpentyp.
Die mehrstufigen Wälzkolbenpumpen der ACP 120-Baureihe mit Wasserkühlung sind aus robustem Gussmaterial gefertigt. Wie auch die Wälzkolbenpumpstände ACG 600 werden sie in Forschung und Entwicklung, Beschichtung und Metallurgie eingesetzt, wenn hohes Saugvermögen benötigt wird.
Aggressive Anwendungen sind kein Problem
Mehrstufige Wälzkolbenpumpen der Baureihen A3P bis A4XN wurden für aggressive Prozesse der Halbleiter- und Photovoltaikproduktion entwickelt, in denen leicht korrosive Gase oder Kondensat gefördert werden müssen. A3P- und A3XN-Pumpen sind kompakt und energieeffizient. Die geringe Geräuschentwicklung und das niedrige Vibrationsniveau sind herausragende Merkmale der Serie. Die Pumpen der A4-Serie mit einem Saugvermögen von bis zu 3.000 m3/h sind aus Materialien gefertigt, die gegen Korrosion resistent sind.
Medienverträglichkeit auch bei hohen Gasdurchsätzen macht diese mehrstufigen Wälzkolbenpumpen zur besten Lösung für den Einsatz in CVD-Prozessen der Halbleiterindustrie. Die ADH-Baureihe wurde speziell für Anwendungen in Prozessen der Solar-, Halbleiter- und LED-Industrie mit leichten Gasen und sehr schnellem Gasfluss entwickelt, da sie sowohl für Stickstoff als auch für Wasserstoff ein hohes Saugvermögen von 600 bis 4.500 m3/h bietet. Durch die herausragende Beständigkeit gegen statische und dynamische Innenbelastungen gewährleisten die Pumpen eine verbesserte Sicherheit.
