Mehrstufige Wälzkolbenpumpen für anspruchsvolle Prozesse

Die ölfreien Prozesspumpen der Baureihen A4X und ADH sind energie- und kosteneffiziente Lösungen für anspruchsvolle Prozesse der Halbleiter-, Beschichtungs- und Solarindustrie.

Was sind anspruchsvolle Prozesse?
Unter anspruchsvollen Prozessen (englisch „harsh processes“) versteht man chemische Bearbeitungsprozesse, z. B. in der Halbleiter- und Beschichtungsindustrie. Anspruchsvoll sind diese Vakuum-Prozesse deshalb, da dort überwiegend aggressive sowie korrosive Medien eingesetzt werden. Diese Medien stellen höchste Ansprüche an Bauart und Qualität der Prozessanlagen. Typische anspruchsvolle Anwendungen sind Trockenätzprozesse, chemische Gasphasenabscheidung (CVD), Atomlagenabscheidung (ALD) sowie metallorganische chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD).

Die richtige Version für Ihre Anwendung
Die A4X-Pumpen sind mit korrosionsresistenten Materialien ausgestattet, um die Betriebsdauer zu verlängern und die Betriebskosten zu senken. Die Pumpen der ADH-Serie sind die richtige Wahl für anspruchsvolle Prozesse, die ein hohes Saugvermögen für die beiden Prozessgase Stickstoff und Wasserstoff erfordern. Diese Pumpen können größere Mengen von Prozessnebenprodukten bewältigen und gewährleisten das höchste Sicherheitsniveau für Anwendungen, die mit explosiven Gasen wie Wasserstoff oder Silan betrieben werden.

Die richtige Ausrüstung ist entscheidend
Da in anspruchsvollen Prozessen aggressive und korrosive Chemikalien eingesetzt werden, müssen die Vakuumpumpen und -komponenten korrosionsbeständig sein. Bei Anwendungen in der Halbleiter- und Beschichtungsindustrie kommt es häufig zu einem erhöhten Auftreten von Stäuben, die zu Ablagerungen in den Vakuumpumpen führen können. Es muss deshalb darauf geachtet werden, dass die eingesetzten Prozesspumpen für diese Belastung durch Stäube geeignet sind. Zur bestmöglichen Vermeidung von Kondensation in der Pumpe wird Sperrgas in Kombination mit einem technisch ausgereiften Temperaturmanagement eingesetzt.

Prozesspumpen der A4X-Serie von Pfeiffer Vacuum für anspruchsvolle Anwendungen
Pfeiffer Vacuum bietet mit der A4X-Baureihe Pumpenlösungen für die anspruchsvollsten Prozesse der Halbleiter- und Beschichtungsindustrie. Die Serie basiert auf der bewährten Technologie der ölfreien mehrstufigen Wälzkolbenpumpe. Eine hohe Partikeltoleranz und Kondensationsresistenz zeichnet die Pumpen der A4-Baureihe aus. Ihre kompakte und modulare Bauweise ermöglicht eine platzsparende Integration in bestehende Anlagen. Lange Wartungsintervalle und ein geringer Energieverbrauch sorgen für niedrige Betriebskosten.

Ölfreie Hochleistungspumpen der ADH-Baureihe für aktuelle Prozessanwendungen
Die ADH-Baureihe wurde speziell für Anwendungen in anspruchsvollen Prozessen der Solar-, Halbleiter- und LED-Industrie entwickelt, da sie ein Saugvermögen von 600 bis 4.500 m3/h bietet. Die Pumpen bieten die beste Wasserstoff-Pumpeffizienz für Anwendungen in den Bereichen Solar (a-Si und μ-Si PECVD) und LED (MOCVD GaN, AlGaAs, AlGaInP…) sowie ein hohes Wasserstoff-Saugvermögen und geringe Betriebskosten bei Anwendungen der Halbleiterindustrie (ALD, Epitaxie und EUV).

Vorteile

  • Bis zu 4.500 m3/h Saugvermögen
  • Gleiche Leistung bei Stromversorgung mit 50 und 60 Hz.
  • Geringe Betriebskosten durch niedrigen Energie- und Wasserverbrauch
  • Hohe Staubförderleistung
  • Langes Wartungsintervall
  • Hohe Energieeffizienz durch mehrstufige Wälzkolbentechnologie, effiziente Motoren und reduzierten Einsatz von elektrischen Heizungen
  • Hohe Partikeltoleranz erhöht die Betriebszeit
  • Erweiterte Überwachungsfunktionen für die genaue Kontrolle der Pumpen während des Betriebs und Möglichkeiten weiterer Einsparungen im Leerlauf-Modus (Idle)
  • Semi S2-0712 und UL 61010 kompatibel

Anwendungen

  • Halbleiter (Ätzen, PECVD, SACVD ALD, Epitaxie und EUV)
  • Flachbildschirme (FDP)
  • Solarzellen (a-Si und μ-Si PECVD)
  • LED (MOCVD GaN, AlGaAs, AlGaInP…)
  • Beschichtungsindustrie: Photovoltaik und LED
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