Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 부스에서는 반도체 산업을 위한 브랜드의 광범위한 진공 솔루션 및 기술 전문 지식을 선보일 것입니다. 여기에는 진공 펌프, 오염 관리 시스템, 누출 감지기, 밸브, 가스 저감 솔루션 및 포괄적인 서브 팩 관리가 포함되며, 모두 대만의 반도체 제조 시설의 인프라 개선을 목표로 합니다.
다양한 진공 및 저감 솔루션
전시회의 하이라이트 중에는 여러 가지 혁신적인 제품 등이 있습니다.
UltiDry 다단계 건식 진공 펌프는 열악한 조건 하에서도 내구성 및 낮은 에너지 소비 성능을 제공합니다. 분말 관리를 향상시키고, 높은 유입 흐름 처리 및 부식성 가스 견딜 수 있도록 설계되었습니다.
전시되는 고온 열 저감 시스템은 화염 저감의 광범위한 공정 적용 범위와 플라즈마 저감의 연료가 필요하지 않은 측면을 결합합니다. 이 시스템은 운영 비용과 2차 배출이 적고, 분자 공정 가스 NF3를 동급 최고 수준으로 파괴할 수 있으며, 질소산화물 배출량이 매우 낮다는 점이 특징입니다. 이 시스템은 화학기상증착(법) 및 금속 에칭 공정 시 탄소 발자국을 최소화하는 지속 가능 솔루션을 제공합니다.
산업박람회 방문객들은 2025년 9월 10일부터 12일까지 대만 타이베이 TaiNEX 홀 1 및 2의 부스 K2870에서 SEMICON Taiwan에서 Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions의 새로운 개발 사항 등을 확인할 수 있습니다. 이 행사는 참가자들이 업계 리더들과 소통하고 진공 및 저감 기술 향상/발전/전진 기술에 대해 자세히 알아볼 수 있는 훌륭한 기회입니다.
Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions의 UltiDry 다단계 건조 진공 펌프. 출처: Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions.