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반도체 제조

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions는 완벽한 반도체 산업용 솔루션 제공업체입니다.

당사의 혁신적이고 포괄적인 포트폴리오는 클린룸에서 베이스먼트에 이르는 실리콘 웨이퍼 생산에서 오염을 방지하고 에너지를 절약하여 수율을 높이는 목적으로 널리 사용됩니다.

반도체 산업을 위한 진공 기술

반도체 산업은 기술 발전을 주도하는 업종으로, 스마트폰 및 AI와 같은 장치를 통해 우리의 일상에 영향을 끼칩니다. 이러한 혁신의 핵심은 작지만 매우 복잡한 부품인 마이크로칩으로, 매우 정밀한 무오염 제조 환경을 요구합니다.

반도체 제조에 필요한 무오염 환경을 유지하는 데 첨단 진공 기술이 핵심적인 역할을 합니다.
반도체 제작은 가장 빠르게 진화하는 산업 중 하나로, 더욱 높은 성능과 진보한 기술, 지속가능성이 요구됩니다. 여기 요구되는 무오염 환경을 유지하는 데 첨단 진공 기술이 핵심적인 역할을 합니다.

40년 가까운 전문성을 갖춘 Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions는 진공 챔버부터 정화 시스템까지 반도체 제조 공정 전반에 걸쳐 광범위하고 고품질의 포트폴리오를 제공합니다. 당사는 진공 및 팹 솔루션의 원스톱 공급업체로서, 반도체 산업이 직면한 과제를 깊이 이해하고 있습니다. Pfeiffer는 반도체 기업의 웨이퍼 제작 과제 해결을 돕는 혁신적인 제품을 제작하는 우수한 파트너입니다. 당사의 역할은 제품 시너지를 통해 파편화된 점을 잇고, 맞춤형 솔루션을 제공하여 높은 수율을 낼 수 있게 하고, 에너지 소비 및 탄소 발자국을 최소화하는 것입니다.

진공 응용 분야

Semicon 서비스

일치 제품

반도체 제조에서의 진공 응용 분야

반도체 팹은 여러 층으로 구성되며, Pfeiffer 제품은 신뢰할 수 있는 칩 제조를 보장하기 위한 세 가지 핵심 영역에 활용됩니다. 최상층인 클린룸은 웨이퍼 공정을 위해 부유 입자가 극히 낮은 상태를 유지합니다. 그 아래 서브 플로어에는 클린룸 기능에 필요한 필수 설비가 있습니다. 가장 아래층 베이스먼트(서브팹)에는 진공 펌프, 가스 처리 등 공정 안정성, 안전 및 환경 통제에 중요한 각종 시스템이 배치되어 있습니다.

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클린룸

반도체 클린룸은 반도체 장치 제조 공정 중 공기 중 부유 입자, 오염물, 이물질을 최소화하도록 설계된 특수 환경입니다. 단 하나의 미세 입자도 작동을 중단시키고 제품 품질을 떨어뜨릴 수 있는 반도체 제조에서 높은 수준의 청정도를 유지하는 데에는 이렇게 통제된 환경이 필수적입니다.

Pfeiffer는 반도체 제조에 요구되는 최적의 압력과 청정도를 충족하고 유지할 수 있는 내구성 높은터보 진공 펌프, 오염 관리 시스템, 밸브를 제공합니다. 당사의 고성능 장비는 웨이퍼 오염을 방지하고 공정 진화에 적응하므로 총 소유 비용까지 절감됩니다.
일치 제품
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서브 플로어

클린룸의 바닥 아래에 놓인 서브 플로어에는 공기 분배, 전선, 화학물질 공급 라인 등 원활한 클린룸 운영을 가능하게 하는 중요한 설비가 놓여 있습니다.

Pfeiffer는 주요 반도체 툴 메이커가 검증한 최초의 사용 지점 진공 펌프 공급업체로, 이 덕분에 로드 락 및 이송 툴 내 진공을 보장할 수 있게 되었습니다.

  • 우수한 진공 펌프 성능으로 툴 작동을 최적화해 생산성 향상.
  • 에너지 효율적이고 소비량이 낮은 진공 펌프로 총 소유 비용 절감.
  • 컴팩트한 사용 지점 진공 펌프이기 때문에 클린룸 공간 최적화.
  • 설치에 필요한 면적이 작아 설치와 유지보수가 간편하고 저소음.

효율 개선, 에너지 소비량 절감이 특징인 솔루션으로, 반도체 제조 환경에 요구되는 까다로운 요건을 충족합니다.
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베이스먼트

클린룸 아래에 위치한 서브팹(베이스먼트)은 한두 개 층으로 구성됩니다. 베이스먼트에는 공정 안정성, 안전 및 환경 제어를 유지하기 위한 진공 펌프, 정화 시스템, 배기면 관리 시스템이 있습니다.

Pfeiffer는 서브 팹 운영 최적화를 위한 내구성 높은 에너지 효율적 솔루션을 종합적으로 제공합니다.

  • 신뢰성 높은 제품 및 디지털 모니터링으로 예기치 않은 고장을 방지하여 생산성 향상.
  • 전력, 물, 질소 소비량이 적은 건식 진공 펌프로 운영 비용을 낮추고 유지보수 간격을 늘려 총 소유 비용 절감.
  • 유해물 배출 및 환경적 영향을 최소화하는 고효율 정화 시스템으로 지속가능성 목표에 부합.
  • 예측적 유지보수 솔루션으로 미가동 시간 감소, 정화 시스템의 현장 유지보수 활동 최소화.
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진공 응용 분야 한눈에 보기

클린룸

서브 플로어

베이스먼트

Semicon 서비스

당사는 최첨단 반도체 서비스 솔루션을 위한 원스톱 숍입니다.

광범위한 글로벌 서비스 및 지원 네트워크를 갖춰 언제 어디서든 반도체 고객사를 가까이에서 돕습니다.
당사는 고도로 숙련된 인력을 활용하여 최단 시간 내에 최고 품질의 수리 및 필드 서비스와 기술 지원을 제공함으로써 최적의 장비 성능을 발휘할 수 있도록 합니다.
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    ARPQP

    Pfeiffer 의 새로운 진공 펌프 재제조 서비스. 특히 반도체 및 평면 패널 시장에 적합합니다.

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    종합 서브팹 관리

    반도체 공장에서 안전하고 안정적인 생산 환경을 위한 종합적인 현장 서비스 솔루션입니다.

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    가스 저감 서비스

    세척 시스템의 설계 및 설치 이후에 제공되는 종합적인 서비스 패키지.

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    반도체 서비스 지점

    반도체 서비스 지점을 찾을 수 있습니다.

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반도체 제품 포트폴리오

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3D로 토탈 팹 솔루션 살펴보기

Pfeiffer의 진공 솔루션이 반도체 제조의 모든 단계에 어떻게 완벽하게 통합되는지 알아보십시오. 인터랙티브 3D 모델을 둘러보고 클린룸에서 서브팹 등에서 실제 어떻게 작동하는지 확인해보십시오.

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반도체 산업의 지속가능성을 가속화하는 파트너, Pfeiffer

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반도체 제조의 진화로 환경적 영향을 최소화하는 것이 최우선 과제가 되었습니다. Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions는 모든 진공 레벨에 전력, 물, 질소 소비량을 절감해주는 에너지 효율적인 솔루션을 제공하여 지속가능성을 추구합니다. 제품 수명이 길기 때문에 폐기물이 최소화되므로 지속가능성에 한층 더 부합합니다.

당사의 고효율 정화 시스템은 파괴 및 제거 효율(DRE)이 뛰어나 유해물질 배출을 크게 줄입니다. 또한 당사의 제조 시설은 에너지 효율성 분석을 거쳐 재생 가능 에너지원을 사용하여 운영되며 친환경 산업에 대한 약속을 이행합니다.

FAQ

Pfeiffer는 웨이퍼 제조업체를 어떻게 돕고 있습니까?

당사는 반도체 제조업체가 클린룸 환경을 실시간으로 모니터링할 수 있도록 진보한 오염 관리 솔루션을 제공합니다. 이물질을 조기에 검출하여 수율 손실을 최소화하는 데 당사의 솔루션이 조력하고 있습니다.

Pfeiffer는 어떤 펌프 기술을 제공합니까?

당사의 건식 진공 펌프 제품군에는 스크류 진공 펌프와 다단 진공 부스터 등이 있습니다.

반도체 산업에서 진공 환경은 어떤 점에서 독특합니까?

반도체 산업에서의 진공 환경은 엄격한 클린룸 표준을 준수해야 합니다. 진공 펌프 등 모든 부품도 매우 구체적인 산업 규정을 충족해야 합니다.

반도체 산업에서의 진공 펌프가 이렇게 전문화된 이유는 무엇입니까?

반도체 산업에서 진공 레벨은 특정 응용 분야, 툴 유형 및 공정 레시피에 근거해 정밀하게 선택해야 합니다. ALD, PECVD, CVD, PVD 등 증착 및 에칭 공정은 각각 별개로 통제된 진공 레벨 및 압력을 요구하고, 공정 가스 호환성이 상이합니다.

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions는 맞춤식 진공 시스템을 제공할 수 있습니까?

예, Pfeiffer는 반도체 제조업체의 구체적인 요구에 맞춘 맞춤형 진공 시스템을 제공합니다. 당사는 견고한 에너지 효율적 제품 포트폴리오와 심층적인 기술 전문 지식을 결합하여 대기압부터 초고진공에 이르는 모든 진공 영역에 걸친 솔루션을 설계합니다.

진공 펌프가 실리콘 웨이퍼 생산에 왜 필요합니까?

진공 펌프는 증착, 에칭, PVD, 미세가공기술, 플라즈마 에칭, ALD 등 반도체 공정에 필요한 초청정 환경을 유지하는 데 핵심적인 역할을 합니다. 안정적인 진공 조건을 보장해 입자 오염을 방지해주며 웨이퍼 제조에 필요한 높은 정밀도를 가능하게 합니다.

전통적인 실리콘부터 탄화규소(SiC) 및 질화갈륨(GaN)과 같은 첨단 소재에 이르기까지 모든 웨이퍼 기술 전반에 진공은 필수불가결합니다.

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions는 반도체 공정 에너지 소비 감소에 적합한 파트너입니까?

예. 당사는 에너지, 질소 및 물 사용을 최소화할 수 있는 첨단 기술로 엔지니어링된 진공 펌프 및 가스 정화 시스템 등 다양한 반도체용 제품을 제공합니다. 당사의 솔루션은 업계의 지속가능성 목표에 부합하며, 제조업체가 성능 저하 없이 환경 발자국을 줄일 수 있도록 돕습니다.

Pfeiffer가 열 범위가 넓은 건식 진공 펌프를 제공하는 이유는 무엇입니까?

당사의 건식 진공 펌프는 넓은 열 범위를 갖춰 저온의 민감한 전구체부터 고온의 응축 가능 가스에 이르기까지 다양한 가스 공정 처리를 효과적으로 수행할 수 있습니다. 이 특정으로 인해 진공 시스템 내부에 소재가 축적되는 상황을 방지하여 까다로운 반도체 응용 분야 내에서 안정적인 동작, 높은 신뢰도, 제품 수명 연장을 보장합니다.

이러한 열 유연성은 제품 내에 특수 부품이 사용되었기 때문에 가능합니다. 당사로 문의해 주시면 귀사의 공정에 가장 적합한 최적의 솔루션을 제공해 드립니다.