오염 관리 시스템

효율적인 오염 모니터링

APA 302는 클린룸 환경의 고급 칩 제조를 위한 독보적인 인라인 모니터링 공구입니다. 이 혁신적인 장비는 FOUP 및 주변 환경의 공기 중 분자 오염(AMC)을 ppbv 범위의 고감도로 실시간으로 측정합니다. 대기 시간 동안 불화수소(HF)와 같은 수분과 AMC가 FOUP의 슬롯 간 공간에 방출되어 패턴 웨이퍼에 결정 성장을 유발해 수율 손실과 성능 저하를 초래할 수 있습니다. Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions의 APA 302는 FOUP 필터를 통해 AMC를 샘플링합니다. 측정은 이온 이동도 분광법, 화염 이온화 감지, 형광 UV 또는 캐비티 링다운 분광법을 통해 ppb 범위의 고감도로 2mn 단위로 수행됩니다. 로드 포트에 FOUP가 없는 경우 APA 302는 주변 클린룸 환경을 모니터링합니다.

FOUP 환경에 대한 신뢰할 수 있는 분석

성능을 보장하기 위해 SEMI S2/S8을 준수하는 APA 302에는 일정한 간격으로 활성화되는 자동 보정 기능이 탑재되어 있습니다. APA 내 AMC 모니터링은 웨이퍼 유무에 관계없이 POD에서 수행할 수 있습니다. FOUP는 수동으로 또는 2개의 적재 포트에서 오버헤드 호이스트 운송(OHT)을 통해 전달할 수 있습니다. 이를 통해 개별 공정 단계 사이의 대기 시간을 최적화하고, 오염도 증가를 즉시 인식하며, 수율을 증진할 수 있습니다.

효율적인 입자 모니터링

크기가 마이크로미터 미만인 입자는 상당한 수율 손실로 이어질 수 있는 결함을 유발할 수 있습니다. 0.1µm의 아주 작은 입자라도 반도체 칩의 구조를 손상시킬 수 있습니다. 혁신적인 ADPC 302는 웨이퍼 운송 캐리어, 전면 개방형 통합 포드(FOUP) 및 전면 개방형 배송 상자(FOSB)의 입자 수를 측정합니다. 특허를 획득한 완전 자동화 공정은 도어를 포함한 캐리어 표면에서 입자를 찾아 계수합니다. 주요 팹의 인증을 받은 이 시스템은 연속 제조 및 R&D 분석에 모두 사용할 수 있습니다. 주요 응용 분야로는 캐리어 특성화, 세척 전략 최적화, 세척 품질 점검 등이 있습니다.

이점

ADPC 302의 건식 공정(건식 입자 계수기)은 기존의 습식 공정(액체 입자 계수기)에 비해 확실한 이점을 보여줍니다. 건식 공정의 가장 큰 장점은 입자 측정이 완전 자동식이라는 점입니다. 이 장비는 생산 공정에 통합되어 제조 기간 외의 시간이 필요하지 않습니다. 완전 자동식 측정 덕분에 추가 작업자 없이 공정 진행이 가능합니다. 검사 시간은 단 7분으로 ADPC 302는 기존 시스템보다 4배 빠릅니다. 한 시간에 8개의 운송 상자를 검사할 수 있습니다.

신뢰할 수 있는 오염 제거 및 보호

APR은 대기 시간 동안 웨이퍼 오염 제거 및 보호를 위해 설계된 시스템입니다. 공기 중 분자 오염(줄여서 AMC)은 반도체 제조에서 수율과 품질을 떨어뜨립니다. APR은 웨이퍼와 운송 상자 표면에 오염된 유기 또는 무기 분자가 흡착되는 것을 효과적으로 방지합니다. APR의 챔버 배출을 통해 흡착 가능성이 대폭 감소합니다. 이러한 방식으로 팹의 수율을 크게 높이고 개별 공정 단계 사이의 대기열 시간을 최적화할 수 있습니다.

데이터 관리 및 팹 통신

IC 팹의 공기 중 분자 오염(AMC)은 수율 손실의 주요 요인입니다. 오염원을 제어하고 이해하기 위해 Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions는 반도체 시장에서 클린룸과 장비 프론트 엔드 모듈(EFEM)을 모니터링할 수 있는 독보적인 솔루션을 제공합니다. AMPC는 혁신적인 통합 밸브 설계 덕분에 팹 내 최대 96개 위치에서 산, 염기 및 유기 화합물을 감지하고 정량화하기 위해 최첨단 분석기를 모았습니다. AMPC 제품군에는 외부 차원, 라인 수, 옵션이 다른 AMPC S와 AMPC L의 2가지 공구가 있습니다. 또한 AMPC 확장 프레임은 추가 분석기를 위한 39U의 공간을 제공하여 기존 AMPC 장치의 업그레이드에 사용하거나 새로운 AMPC S 및 AMPC L 장치에 추가할 수 있습니다. 최종 사용자는 공구 소프트웨어를 통해 오염 수준이 정의된 임계값을 초과할 때 다양한 알람을 설정할 수 있습니다. 모든 측정 데이터와 공구 매개 변수는 팹의 통신 프로토콜로 전송할 수 있는 데이터베이스에 저장되어 고객에게 팹의 오염 수준을 실시간으로 파악할 수 있습니다. 또한 고객은 필요한 경우 원격으로 공구에 액세스하여 매개 변수를 수정할 수 있습니다.

고객 이익

반도체 산업에서 웨이퍼는 운송 및 대기 시간 동안 반응 부산물을 배출합니다. 불화수소(HF)와 같은 수분 및 공기 중 분자 오염물질(AMC)은 운송 상자(Pod 시스템)의 좁은 공간에서 주변 공기의 산화제(H₂O 및 O₂)와 반응합니다. 이러한 반응은 구조화된 웨이퍼에서 원치 않는 결정 성장을 유발하여 품질 저하와 제조 수율 감소로 이어집니다.

제약 산업에서 습도, 산소 또는 미생물 수신과 같은 오염은 제품 수명 주기 전반에 걸쳐 의약품 안정성에 영향을 미칠 수 있습니다.

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions는 진공 기술 공급업체로서 다년간의 경험을 통해 생산 시스템의 공정, 장비 및 환경에 대한 노하우와 이해를 쌓아왔습니다. 이러한 지식을 바탕으로 반도체 및 제약 산업에 특화된 고급 오염 관리 솔루션을 개발했습니다. 이러한 솔루션은 오염을 식별하고 최소화하여 공정의 각 단계에서 수율을 높입니다.

제조 과정에서 품질과 높은 수율을 보장하려면 장치 패키징과 주변 환경의 오염 물질에 대한 지식이 중요합니다.
반도체 산업에서는 APA 302를 통해 공정 주기 내 연속 분석이 가능합니다. ADPC 302의 완전 자동화 공정은 운송 캐리어의 내부 표면에서 입자의 위치를 파악하고 계수합니다. APR 4300은 한 단계 더 나아갑니다.

AMPC는 클린룸 및 장비 프론트 엔드 모듈 모니터링(EFEM)에 이상적인 솔루션입니다.