Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 推出 CenterLine CNR 系列

CenterLine CNR 系列由模拟电容式真空计组成，可在 0.1 至 1000 Torr 的全量程范围内实现跨越四个数量级的精准测量。CNR 系列提供加热和非加热两种型号，不仅扩展了现有的 CenterLine 系列，在严苛的运行条件下也能保持稳定性能。与其他 CenterLine 真空计一样，CNR 系列具有出色的性价比，可轻松集成到采用其他制造商的测量技术的现有设备中。

CNR 真空计非常适合与压力调节阀配套使用，适用于半导体行业的干法刻蚀、化学气相沉积（CVD）和原子层沉积（ALD）等工艺， 也可用于分析、研发及其他多种工业领域。此次产品系列拓展共推出了五种不同型号：36x、37x、38x、39x 和 30x。该系列所有产品均符合 SEMI S2 标准。

适用于各种温度下的不同工艺

CenterLine CNR 系列真空计为不同温度条件下的工艺提供了多种选择。36x 是非加热型号，可在环境温度下进行可靠测量，精度达 0.2%。同时提供 45°C、100°C、160°C 和 200°C 自加热型号。45 °C 型号的精度为 0.15%，非常适合校准实验室和高质量控制应用。其余自加热型号的精度为 0.4%，在高温或热气体工艺中的测量精度优于同类产品。

抗污染和耐腐蚀

该测量装置的核心部件是隔膜传感器。该传感器由一层通过原子层沉积（ALD）技术涂覆、稳定且耐用的陶瓷屏蔽层保护。该屏蔽层可保护传感器免受工艺气体高温的影响，并防止潜在的腐蚀。即使在恶劣的等离子体环境中，也可超大限度地减少污染，从而确保传感器具备更高的运行可靠性和准确性，以及更长的使用寿命。由于传感器漂移减少，校准频率降低，从而也降低了总拥有成本。

压力控制（p-control）滤波器设置

CenterLine CNR 系列真空计配备了一项特殊的滤波器设置——“p-control”（即压力控制）。其设计兼具快速响应和自适应特性，使真空计能够更迅速地对压力变化作出反应，并提供精确平稳的压力控制。该功能与压力调节阀配合使用时效果尤其显著。