半导体制造

我们提供先进的污染管理解决方案，助力半导体制造商实时监控洁净室环境。通过早期污染物检测，我们的解决方案有助于最大限度地减少生产良率损失

我们提供涵盖螺杆真空泵和多级罗茨泵的干式真空泵产品系列。

在半导体行业，真空环境必须符合严格的洁净室标准。包括真空泵在内的所有组件都需要满足高度专业化的行业规范。

半导体行业的真空度必须根据具体应用、设备类型和工艺配方进行精确选择。每项沉积和蚀刻工艺——包括 ALD、 PECVD、 CVD 和 PVD——都需要精确控制的真空度与压力条件，同时确保与各类工艺气体的兼容性。

是的，Pfeiffer 普发可为半导体制造商提供量身定制的真空系统。凭借丰富的坚固、高效节能产品组合与深厚的技术专长，我们能够设计覆盖从常压到超高真空全压力范围的定制化解决方案。

真空泵在半导体制造工艺中发挥关键作用，为沉积、蚀刻、PVD、光刻、等离子刻蚀和 ALD 等工艺维持超洁净环境。通过确保稳定的真空环境，真空泵能够有效防止颗粒污染，满足晶片制造的高精度要求。

从传统硅材料到碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）等先进材料，真空对于所有晶片技术均至关重要。

是的， 我们提供广泛的半导体产品组合——涵盖真空泵和工艺气体尾气处理系统——这些采用先进技术设计的产品能显著降低能源、氮气和水资源消耗。我们的解决方案符合行业可持续发展目标，在保证性能的同时助力制造商减少环境足迹。

宽温域设计让我们的干式真空泵能够高效处理从低温敏感前驱体到高温可冷凝气体的各类工艺气体。这一特性可防止真空系统内部材料积聚，确保在严苛的半导体应用中实现稳定运行，提升可靠性并延长产品使用期限。

该温域适应性通过集成于产品中的专用组件实现。欢迎联系我们，查找适合您特定的工艺需求的理想解决方案。