污染、真空和清洁度验证解决方案
借助普发真空深厚的行业知识体验开创性的解决方案。我们定制的系统重新定义了各个行业的精度和效率。
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由丰富经验驱动的技术清洁创新
在普发真空，我们丰富的经验和对客户的承诺是我们创新解决方案背后的驱动力。凭借对半导体、制药、冶金和新兴市场的深入了解，我们利用我们的知识创建尖端系统，帮助您在行业中脱颖而出。
我们邀请您探索我们的技术清洁专业系统，体验知识、经验和客户奉献精神可以为您的行业带来的改变。立即联系我们，了解我们如何定制解决方案，以提高您的精度、质量和效率标准。
空分子解决方案 污染管理和颗粒污染监测
普发真空提供专为半导体和制药行业量身定制的最先进的污染管理系统。凭借我们多年来为这些行业的客户提供真空技术的经验，我们开发了旨在识别和最大程度地减少污染并优化每个阶段的生产流程的解决方案。我们坚定不移地致力于提高敏感器件生产的产量，提供 APA 302 等创新工具，用于半导体工艺周期内的实时分析和洁净室监控。 ADPC 302 可自动实现传输介质中的颗粒定位和计数，而 APR 4300 则更进一步。对于制药行业，我们解决影响药物稳定性的水分、氧气和微生物进入等挑战。
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OmniGrade
用于复杂清洁度验证的定制 RGA 系统
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OmniGrade可定制 RGA 系统
在清洁度要求严格的新兴市场中，普发真空的OmniGrade系统可满足您的清洁度验证需求。为了满足不断发展的标准，我们的残余气体分析 (RGA) 解决方案解决了确定高真空环境中除气率的挑战。我们扩展了残余气体分析产品组合，可根据您的特定测试需求提供定制的交钥匙解决方案，确保满足质量标准和除气预算。 OmniGrade系统提供模块化选项，包括光谱仪选择和洁净室兼容性。凭借我们的专业知识，您可以相信我们能够优化您的验收测试和法规遵从性。联系我们，了解如何改进您的清洁度验证流程。
HiCube Neo RGA
The compact and customizable RGA system
Applications in research and development rely on precise vacuum conditions to prevent defects, ensure sterility, and achieve accurate measurements. Even trace amounts of residual gases can affect process efficiency and product quality. The HiCube Neo RGA enables high-accuracy residual gas analysis, helping you detect leaks, monitor contamination levels, and optimize vacuum conditions. Its modular design allows customization with various inlet configurations, while digital and analog interfaces ensure seamless process monitoring and data integration. The touch screen simplifies operation and analysis. Whether in research labs or industrial applications, the HiCube Neo RGA provides precision and flexibility to maintain product quality and enhance process efficiency.
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HiCube Neo RGA
Vacu2
多级真空工艺实现一流的压铸
通过普发真空的多级真空工艺体验可靠、高效压铸的突破性解决方案。我们的 Vacu2 和 Vacu2 eco 系统提供两个阶段，可快速排出模具型腔和压射套筒中的空气，防止铸件中滞留空气。 Vacu² 非常适合锁模力超过 750 吨的压铸机，确保低维护成本和高再现性。另一方面，Vacu2 eco 专为锁模力低于 750 吨的装置而设计，具有成本效益和能源效率。通过精确的压力控制和减少废品，我们的多级真空工艺最大限度地提高了压铸工艺的效率。
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多级真空工艺 Vacu2
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