污染管理解决方案
普发真空的污染管理方案提高了敏感器件生产各个工艺步骤的产量及良率。
:grayscale(false):format(png))
我们的投资组合
:grayscale(false):format(png))
:grayscale(false):format(png))
:grayscale(false):format(png))
:grayscale(false):format(png))
Item 1 of 4
普发真空创新的解决方案
污 染管理系统是我们专门为半导体和制药行业新开发的。凭借普发真空多年来作为真空技术供应商的经验，已经使我们对生产体系的工艺、设备以及环境的专有技术 和理解完全成形。基于这一认识，我们已开发了能够识别并减少污染以及提高工艺每个步骤产量的解决方案。归根结底，我们知道，具有科学认识的高级分析是分子层面 含有污染的关键所在。
为 保证生产质量和高产量，对器件包装中的污染物及其直接环境的认识是十分重要的。
在半导体行业，通过 APA 302，可以在处理周期内进行连续性的分析。而 ADPC 302 全自动化的工艺则能够在运输载体的内表面上对粒子进行定位和计数。至于 APR 4300，在此基础上甚至更进了一步。
AMPC 是洁净室和设备前端模块 (EFEM) 监控的理想解决方案。
:grayscale(false):format(png))
单页 污染管理解决方案
污染是如何发生的?
在半导体行业，在运输和等待期间，晶圆发射出了反应副产品。通过气流传播的水分和分子污染物（空气分子污染物，简称 AMC），例如氟化氢 (HF)，在运输箱（吊舱系统）的狭隘间隙里与环境空气中的氧化剂(H2O 和 O2) 发生反应。在这些反应中，生长在结构化晶片上那些不需要的晶体被触发，从而导致了质量的下降和产量的减少。在制药行业，比如湿度、氧气或微生物侵入等污染可以在整个产品生命周期影响药物稳定性。
需要帮助吗？
我们可以回答您的问题
我们的产品专家随时可以回答您关于我们的产品和您的应用的问题。