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干式螺杆真空泵

适用于半导体行业的先进真空技术

干式螺杆真空泵凭借其创新的工作原理,可提供高抽速清洁的真空环境。在干式螺杆真空泵中,两个螺杆转子沿着相反方向旋转。真空通过在螺杆转子和缸体之间的空间中捕获和输送泵送介质而产生。这些腔体的容积不断减小,压缩泵送介质,直至其通过出口排出。

螺杆真空泵在压缩腔室中以非接触式无油运行,确保了低维护需求和低运营成本。这些真空泵专为半导体制造中要求严苛的流程而设计,包括微芯片制造、硅晶片涂层和蚀刻。
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干式螺杆真空泵的类型

除了半导体制造中的各种工艺,COBRA Semicon 干式螺杆真空泵也是光伏电池制造、平板显示器制造和众多涂层应用的理想选择。

产品系列
额定抽速
COBRA BC
100 m3/h – 1,580 m3/h
COBRA DS
70 m3/h – 6,000 m3/h
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适用于精密半导体工艺的高性能螺杆真空泵

半导体应用

半导体制造既需要无污染的环境,又需要高真空度。我们的 COBRA Semicon 干式螺杆真空泵可满足这些要求。请联系我们的专家,寻找适合您的真空解决方案。

进一步了解在不同的半导体应用中如何使用干式螺杆真空技术。

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提高效率:配备螺杆真空泵的干式罗茨泵站

干式罗茨泵站将 HiLobe 等罗茨泵与用作前级泵的螺杆真空泵相结合 专为半导体制造量身定制,可提供洁净且高效的真空。

这些系统具备高抽速快速抽真空时间。HiLobe 罗茨泵采用高效节能的电机与风冷设计,确保低能耗运行,显著降低运行成本。干式罗茨泵站非常适合各种半导体工艺流程,例如 Load lock 腔体的抽真空等。
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常见问题解答

干式螺杆真空泵的工作原理是什么?

干式螺杆真空泵可提供高抽速并产生无污染的真空。这些优势使其成为半导体制造中的重要组件。干式螺杆真空泵的工作原理可以通过三个步骤来解释

1. 进气口:

  • 泵送介质通过进气口进入真空泵。
  • 两个螺杆转子在圆柱形腔体内沿着相反方向旋转。

2. 压缩:

  • 泵送介质在双螺杆和缸体之间形成的腔体中被截留。
  • 随着螺杆转子的转动,腔体容积减小,压缩介质。
  • 压缩过程中无需在压缩腔室内添加润滑液或工作液。
  • 转子既不相互接触,也不与外壳接触,确保无油运行,避免污染。

3. 排气口:

  • 压缩后,泵送介质通过排气口排出。

Pfeiffer 普发的 COBRA Semicon 干式螺杆真空泵产品系列专为半导体行业设计。它们用于晶片处理、化学气相沉积和蚀刻等工艺,具有高运行可靠性和高效等优势。这些真空泵的无油非接触式工作原理可确保产生清洁的真空,这对于保持半导体制造所需的纯度和质量至关重要。

为什么干式螺杆真空泵是半导体制造的理想之选?

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 的干式螺杆真空泵已在众多一流的半导体晶圆厂中运行。其工作原理基于我们创新的螺杆工艺,非常适合该行业的各种工艺流程。其几个关键特性和优势如下:

1. 维护需求低:螺杆真空泵在压缩过程中保持非接触式运行。这意味着螺杆转子既不相互接触,也不与真空泵外壳接触。这样可以最大限度地减少磨损和降低维护需求,确保了长正常运行时间。

2. 无油运行:干式真空泵在压缩腔室内无需像油这样的工作液。在半导体应用中,必须避免污染,以确保最高的产品质量和精度,因此产生洁净的真空至关重要。

3. 温度控制:干式螺杆真空泵配备了高效的水冷系统。这一特性使泵体实现均匀的温度分布,并防止过热。压缩产生的热量分散到整个泵体,确保了半导体制造过程中的热稳定性。这种稳定性的一个潜在优势是防止工艺气体在真空泵内冷凝,从而降低污染风险。

4. 高抽速和大流量:干式螺杆真空泵具有出色的运行性能、高抽速和大流量。对于从 load lock 腔体到金属蚀刻等产生颗粒的各种半导体应用来说,这些都是必需的。

5. 适应腐蚀性气体:半导体制造包括蚀刻等应用。这些工艺依赖于氯气等有毒气体。由于其采用一体式铸造结构,螺杆真空泵可以有效处理这些气体。这样可以避免任何间隙,防止这些气体进入真空泵内部。因此,可防止腐蚀。

6. 低噪声级:由于其获得专利的自平衡螺杆设计,这些真空泵可确保低振动和安静运行。低噪声级对于半导体制造中涉及的敏感工艺至关重要。

所有这些特点使得 Pfeiffer 普发的 COBRA Semicon 干式螺杆真空泵产品系列成为半导体制造中各种应用的可靠解决方案。它们能够提供强大、高能效且无污染的真空性能。

螺杆真空泵与现代半导体系统兼容吗?

是的,螺杆真空泵与现代半导体系统高度兼容。它们旨在满足半导体应用(如计量、光刻和晶圆加工)的严苛要求。

如 Pfeiffer 普发的 COBRA Semicon 等螺杆真空泵具有效率高、能耗低以及对蒸汽和颗粒的高耐受性。所有这些优势使得螺杆真空泵非常适合半导体应用。其无油压缩可确保产生无污染的真空。这种清洁环境对于保持半导体工厂所需的洁净度至关重要。

如何根据我的工艺需求选择理想的干式螺杆真空泵?

在为半导体应用选择合适的真空解决方案时,必须考虑若干因素。这些因素会因所涉及的具体工艺而异,例如晶圆处理、CVD 或 ALD。

请联系我们,讨论哪种真空解决方案最适合您的需求。我们的专家随时为您提供帮助!

对于其他工业应用,来自 Busch 普旭的螺杆真空泵可产生可靠且高效的真空。访问 Busch 普旭网站以了解更多信息。

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