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为您查找理想的真空解决方案
以创新技术满足各类真空度需求。
氦气泄漏检测
精准氦气泄漏检测技术可保障真空系统完整性，确保其安全高效运行。
超高真空（UHV）环境生成技术
UHV 为超洁净无颗粒环境下的突破性研究和生产创造条件。
容器密封完整性测试（CCIT）
基于真空技术的 CCIT 可为药品提供无菌无泄漏的包装保障，从而确保药品安全与质量。
残余气体分析（RGA）
真空系统残余气体分析（RGA）能够识别污染物，从而确保工艺流程的洁净度并保护设备。
质谱分析
真空环境确保离子精准传输，助力先进质谱技术实现精确质量分析。
热处理/真空炉
真空热处理可在较低工艺温度下实现材料均匀相变，确保品质稳定及表面处理一致性。
加速器
加速器中的真空环境可确保粒子束流稳定，从而实现高精度医学研究和成像。
汽车、航空和制冷领域的泄漏测试
真空检漏技术为高性能汽车与航空系统提供安全及能效保障。
电子显微术
真空条件确保电子无散射运动，从而对微观结构进行高分辨率成像。
锂离子电池
真空工艺可提升电池制造过程中的性能表现、洁净度与安全性。
薄膜镀层
真空技术可确保高性能光学镀层、电子薄膜及装饰涂层的均匀成膜。
太阳能电池制造
高真空环境为高效优质太阳能电池生产提供无碳制造条件。
氢燃料电池
真空技术可确保氢气存储安全防漏，保障氢燃料电池的高效运行。
太空模拟
真空室可模拟外太空环境，为卫星和航天器提供可靠性能测试。
极紫外（EUV）光刻
真空是半导体生产中精密、无颗粒极紫外光刻工艺的关键。
半导体蚀刻与清洁
真空技术实现纳米级半导体制造的精密蚀刻与清洁处理。
气态分子污染物 (AMC)
晶圆缺陷是半导体制造厂良率损失的主要因素之一。
薄膜沉积
在半导体薄膜沉积工艺中，真空环境可极大限度地减少污染，确保镀膜均匀性，并实现沉积过程的精准控制。
Load lock 腔体和传送
适用于 Load lock 腔体和传送应用的真空解决方案。
离子源、束流线与终端站
半导体组件制造是高度复杂的工艺，包含多个必须在真空环境下完成的工序。
CD-SEM
随着生产工艺步骤的增加和器件尺寸的极度缩小，晶圆检测与计量技术的重要性愈发凸显。
3D 打印
真空环境能有效防止氧化、提升材料品质，同时提高熔融过程能量密度，进而优化能效。
灭菌
灭菌是杀灭各类微生物（如真菌、细菌、病毒及孢子）的工艺过程。
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