用于严苛型应用的多级罗茨泵

A4X 和 ADH 系列干式流程泵是具有能源和成本效益的解决方案,可用于半导体、涂层和太阳能行业的严苛工艺。

什么是严苛型工艺?
严苛型工艺举例来说是指半导体和涂层行业中使用的化学工艺。这些工艺要求很高,因为主要在真空下使用和加工侵蚀性和腐蚀性介质。这些介质对处理系统的设计和质量有着最高的要求。典型的严苛型工艺有蚀刻、化学气相沉积 (CVD)、原子层沉积 (ALD) 以及金属有机化学气相沉积 (MOCVD)。

为您的应用选择正确的版本
A4X 泵型号采用耐腐蚀性材料,使用寿命延长,拥有成本降低。ADH 系列泵是要求高抽速工艺气体 N2 和 H2 的苛刻工艺的合适之选。这些泵可以处理大量的副产品,并为运行爆炸性气体(如氢气和硅烷)的应用提供最高水平的安全性。

正确的设备至关重要
由于侵蚀性和腐蚀性化学品是用于苛刻的工艺,因此真空泵和部件必须耐腐蚀。在半导体和太阳能行业的应用中,粉末的出现日益频繁,这可能会导致真空泵内存在沉积物。所以,必须要确定工艺中所使用的泵适合这种粉末量。为了最好地避免泵里凝结,净化气体与复杂的温度管理结合使用。

普发真空用于严苛型应用的 A4X 流程泵
凭借 A4H 系列,普发真空为半导体和涂层行业最苛刻的工艺提供泵的解决方案。此系列产品的设计基于干式多级罗茨泵的成熟技术。A4 系列泵具有高颗粒耐受性和抗凝性的特点。其紧凑、模块化的结构可为现有系统集成节省空间。较长的保养间隔和低能耗提供较低的运营成本。

适用于最新工艺应用的高性能 ADH 系列干式泵
ADH 系列专门为太阳能、半导体和 LED 市场的苛刻工艺应用而开发,提供 600 至 4,500 m3/ h 的抽速。该系列泵为太阳能(a-Si 和 μ-Si PECVD)和 LED (MOCVD GaN, AlGaAs, AlGaInP...) 应用提供最佳氢气泵送效率,并以最低运营成本为半导体应用(ALD、磊晶和 EUV)提供高 H2 抽速。

优势

  • 泵速高达 4,500 m3/h
  • 使用 50 和 60 Hz 电源具有相同的性能。
  • 低功率和低耗水量实现低 COO
  • 高粉转移能力
  • 维护间隔长
  • 得益于多级罗茨泵技术、高效电机以及电加热器的有限使用而实现高能效
  • 高颗粒耐受性提高工具的正常运行时间
  • 准确控制泵操作条件和空闲模式功能的扩展监控功能
  • 符合 Semi S2-0712 和 UL 61010 标准

应用

  • 半导体(蚀刻、PECVD、SACVD ALD、磊晶和 EUV)
  • 平板显示器 (FPD)
  • 太阳能电池(a-Si 和 μ-Si PECVD)
  • LED (MOCVD GaN, AlGaAs, AlGaInP…)
  • 涂层产业:光伏和 LED
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