用于中型应用的多级罗茨泵

A4H 和 A3P 系列干式流程泵是具有能源和成本效益的解决方案,可用于半导体、涂层和太阳能行业的苛刻工艺。

什么是中型工艺?
中型工艺是指比如半导体和涂层行业中使用的化学工艺。由于前级或在泵内直接产生的副产品,中型工艺比轻型工艺更具腐蚀性。中型工艺不包括使用大量腐蚀性气体的工艺。这些中型工艺应用需要高泵送速度、中进口流量或介质粉末管理。典型的中等负荷工艺是在 200 mm 半导体晶圆厂中的去胶或蚀刻和 CVD 工艺。

为您的应用选择正确的版本
A4H 和 A3P 泵型号适合于所有非腐蚀性或有限腐蚀性化学工艺。这些泵型号也存在于镍涂层版本(X 和 XN),但 H 和 P 版本是一种在中型负载上运行的成本节省型产品。

优势

  • 运营成本极低
  • 得益于多级罗茨泵技术、高效电机以及电加热器的有限使用而实现高能效
  • 小型化
  • 重量轻,组装更轻松
  • 在中型负载应用上具有高可靠性
  • 匹配半导体生产的需求
  • 高颗粒耐受性提高工具的正常运行时间
  • 准确控制泵操作条件和空闲模式功能的扩展监控功能

应用

  • 半导体行业(蚀刻、离子注入、PVD 等)
  • 太阳能光伏
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