클린룸에서의 AMC 모니터링

공기 중 분자 오염(AMC)은 반도체 제조에서 수율 손실을 유발하는 웨이퍼 결함의 주요 원인 중 하나로 알려져 있습니다. 클린룸의 AMC는 운전자부터 공정 또는 외부 환경까지 다양한 요인에 의해 생성될 수 있습니다. 칩 노드 치수가 계속 축소되고 있어서 클린룸 환경 모니터링이 대부분의 첨단 반도체 시설의 주요 관심 사항입니다. 또한 웨이퍼 결함을 방지하기 위해 AMC 모니터링이 실시간으로, 매우 높은 감도로 요구됩니다. 파이퍼 베큠은 ppb(십억분율)부터 ppt(1조분율) 감도 수준까지 첨단 반도체 제조 시설 전용 실시간 클린룸 AMC 모니터링 솔루션을 제공합니다.

응용 분야 요구 사항

  • 클린룸 내의 탄소 발자국 제로
  • 반도체 시설에 대한 실시간 모니터링
  • 반도체 시설의 여러 영역에 대한 모니터링
  • 무기/유기 화합물에 대한 모니터링
  • 화합물의 저농도에 대한 모니터링(100 ppt)
  • EFEM(장비 프론트 엔드 모듈)에 대한 모니터링

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