CD SEM

반도체 장비 제조가 단계 수의 증가와 함께 점점 더 복잡해짐에 따라 웨이퍼 검사 및 계량도 점점 더 중요해집니다.

응용 분야 요구 사항

  • 건식 일차 및 이차 진공
  • 낮은 수준의 소음 및 진동
  • 고성능을 통한 높은 처리량
  • 낮은 전력 소비로 인한 운영 비용 절감

어떻게 작동합니까?
CD SEM은 재료의 치수 분석뿐만 아니라 nm(나노미터) 단위 범위에서 치수를 측정하는 데 사용됩니다. 이 유형의 장비에서 전자 빔은 웨이퍼를 래스터 패턴으로 주사합니다. 그러나 먼저 전자가 전자 원에 의해 컬럼의 상단에서 생성된 후, 양으로 하전된 양극에 의해 가속되고 유도됩니다. 이때 전자 컬럼 전체가 진공 상태여야 합니다. 전자 현미경의 모든 구성품과 마찬가지로 전자 원은 진공을 유지하고 오염, 진동 또는 소음을 방지하기 위해 특수 챔버 내부에 실링되어 있습니다. 진공이 전자 원의 오염을 방지하더라도 사용자는 또한 고해상도의 이미지를 획득할 수 있습니다. 게다가 고진공은 컬럼 내에 있는 감지기에 의한 전자의 수집 효율을 높여줍니다.

진공 요구사항
CD SEM은 일반적으로 저진공에서, 10-5 ~ 10-7 mbar의 압력 범위에서 작동합니다. 진동 수준이 낮아야 하기 때문에 일반적으로 자기 부상식 터보 펌프 기술이 사용됩니다. 일차 진공에서는 터보 펌프를 백업하기 위해 펌핑 용량이 낮은 건식 펌프가 필요합니다.

제품 포트폴리오
당사의 HiPace Plus 터보 펌프 라인은 전자 현미경에 가장 적합한 솔루션입니다. HiPace Plus의 진동 수준은 표준 터보 펌프의 진동 수준보다 상당히 낮습니다. 당사는 일차 펌프용으로 다음과 같은 다양한 건식 솔루션을 제공하고 있습니다. 다이어프램 MVP 시리즈, 다단계 루츠 펌프 ACP 시리즈 및 새로 개발된 HiScroll 시리즈. 또한 전체 진공 솔루션에 사용되는 광범위한 측정기를 제공할 수 있습니다.

주요 제품

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