소스, 빔 라인, 엔드 스테이션

이온 주입 공정에서는 붕소, 인, 비소 등의 이온으로 웨이퍼 표면을 도핑한 후, 전기적 특성(장치 전도성)을 변경하거나 웨이퍼 재료(게르마늄이나 탄소와 같이 도펀트가 아닌 원소 함유)의 표면 속성을 수정합니다.

응용 분야 요구 사항

  • 시간이 지나면서 안정되는 진공 성능
  • 최저 기저 압력에서 가벼운 기체에 대해 매우 높은 펌프 속도 및 압축비
  • 고온 작동에 따른 응축 관리
  • 터보에 고급 코팅 기술 적용으로 뛰어난 내식성
  • 낮은 운영 비용과 긴 공정 수명: 낮은 전력 소비량, 낮은 수리 비용

어떻게 작동합니까?
플라즈마에서 이온을 생성하고 이 이온을 가속하고 웨이퍼로 가는 도중에 충돌을 줄이려면 높은 진공 환경이 요구됩니다. 따라서 일반 작동 압력 범위는 10-6 ~ 10-9 mbar입니다. 소스는 공정 가스가 유입되고 뜨거운 필라멘트에 의해 이온화되고 전극에 의해 추출되는 영역입니다. 유입된 가스 중 몇 퍼센트만 이온화되고 추출됩니다. 주입 공정에 주로 사용되는 가스는 비화수소(AsH3), 인화수소(PH3), 수소화붕소(BH3) 또는 게르마늄(Ge)입니다. 빔 라인은 자기장에 의해 이온이 집중되고 가속되어 질량 분리 자석에 의해 생성되는 영역입니다. 엔드 스테이션은 웨이퍼에 도펀트 이온이 주입되는 영역입니다. 로드 록 챔버에서는 대기로부터 웨이퍼를 주입 도구 안으로 들여올 수 있습니다.

진공 요구사항
이온 소스의 일반적인 목표 압력은 5·10-6 mba입니다. 이온 주입 공정에는 진공 펌프로 처리해야 하는 위험하고 반응성이 있는 물질이 사용됩니다. 주입 공정에 사용되는 터보 펌프는 이와 같은 화학적 성질을 견딜 수 있도록 설계되어야 하며, 일부 제조법(PH3 또는 Ge 기반)의 경우 부산물이 축적되지 않도록 가열 버전을 사용할 것을 권장합니다. 필요한 펌프 속도는 장비나 웨이퍼 크기에 따라 1,200 ~ 3,000 l/s 정도입니다. 소스 영역의 건식 펌프의 경우 한 번의 누출만으로도 공정의 수명이 크게 단축되므로 정해진 누출 검사를 반드시 실시해야 합니다. N2 퍼지는 필수이며 공정 등급이어야 합니다. 빔 라인 영역에서의 일반 압력은 9·10-7 mbar입니다. 수행되는 주입 유형에 따라 일반적으로 펌핑 용량이 각각 700 ~ 1,200 l/s인 여러 부식성 터보 펌프 모델을 사용할 수 있습니다.
최종 스테이션 영역에서의 일반 압력은 주로 극저온 펌프의 압력으로서 5·10-8 mbar 범위입니다. 로드 록 챔버에서 진행되는 공정은 완벽하게 깨끗한 것으로 간주됩니다. 이 영역의 진공 요구사항 범위는 9·10-7 mbar이며, 흡입 속도가 최대 300 l/s에 달하는 HiPace 터보 펌프가 주로 사용됩니다.

제품 포트폴리오
파이퍼 베큠은 이런 문제를 처리하기 위해 설계된 전체 범위의 터보 펌프 및 기본 건식 펌프를 제공하고 있습니다. 하이브리드 베어링이 장착된 당사의 HiPace 터보 펌프는 고진공, 고온 상태에서 작동됩니다. 내부식성을 옵션으로 갖추고 있는 당사의 HiPace 시리즈는 주요 OEM의 최고급 이온 주입 도구에서 적합성이 인증되었습니다. A4 시리즈의 A604H 모델은 지하층에서 작동되는 주입 응용 분야에 적합하도록 설계되었습니다. A124H MD 모델은 소스 챔버용으로 특수 설계된 모델로서, 컴팩트해서 통합하기 쉬우며 공정 견고성이 뛰어나서 수명을 늘어났다는 특징이 있습니다. 당사의 ACP 시리즈는 주입 도구를 생산하는 주요 업체로부터 차동 실 펌핑에 있어 그 품질을 인정받고 있습니다. 당사의 로드 록 챔버의 기본 펌프로서의 통합 솔루션(웨이퍼 처리로 링크)은 이 응용 분야에 완벽한 맞춤형입니다."

주요 제품

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