스퍼터링 공정 모니터 SPM 220

스퍼터링 공정 모니터 SPM 220

1-100 amu 범위의 스퍼터링 프로세스 가스 분석
  • 최대 0-2 hPa까지 정확한 순간 프로세스 모니터링을 위한 SPM 이온 소스
  • H2, O2, H2O 및 CO2에 대한 탁월한 검출 한계
  • 측정 결과에 대한 백그라운드 영향의 최소화
  • 유연한 통합을 위한 컴팩트한 치수
  • 최대 압력 10 hPa용 차동 펌핑 버전
  • 다양한 디지털 및 아날로그 유입구와 배출구를 사용한 가볍고 유연한 시스템 연결
  • 멀티플렉스 작동으로 1대의 PC를 사용하여 여러 대의 질량 분석기의 데이터를 분석할 수 있습니다
1-200 amu 범위의 스퍼터링 프로세스 가스 분석
  • 최대 0-2 hPa까지 정확한 순간 프로세스 모니터링을 위한 SPM 이온 소스
  • H2, O2, H2O 및 CO2에 대한 탁월한 검출 한계
  • 측정 결과에 대한 백그라운드 영향의 최소화
  • 유연한 통합을 위한 컴팩트한 치수
  • 최대 압력 10 hPa용 차동 펌핑 버전
  • 다양한 디지털 및 아날로그 유입구와 배출구를 사용한 가볍고 유연한 시스템 연결
  • 멀티플렉스 작동으로 1대의 PC를 사용하여 여러 대의 질량 분석기의 데이터를 분석할 수 있습니다

10-2 hPa까지 실시간 스퍼터링 공정 기체 분석.

스퍼터링 공정 모니터 SPM 220은 스퍼터링 공정의 정성적/정량적 기체 분석을 위한 완벽한 솔루션을 제공합니다. HiPace 터보 펌핑 스테이션과 질량 분석기를 특별히 개발한 SPM 이온 소스를 결합함으로써 최대 10-2 hPa의 압력까지 정밀한 최신 공정 기체 분석이 기능합니다.

 
파이퍼 베큠은 옵션으로서 차동 펌핑 오리피스 플랜지를 채택한 버전도 제공하는데, 이 버전은 최대 10 hPa까지 공정 기체를 직접 분석할 수 있습니다.

고객 이점

  • 즉각적으로 공정을 모니터링하는 SPM 이온 소스
  • H2, O2, H2O, CO2에 대한 탁월한 감지 한계
  • 측정 결과에 미치는 백그라운드 영향의 최소화
  • 최대 10 hPa까지의 차동 펌핑 버전
  • 다중 작동으로 단 한 대의 PC에서 여러 질량 분석기의 데이터를 평가
  • 컴팩트한 크기로 유연한 통합 가능
  • 다양한 디지털 및 아날로그 입출력으로 용이하고 유연한 시스템 통합 가능

응용 분야

  • 최대 10-2 hPa의 압력까지 정밀한 최신 스퍼터링 공정 분석
  • 진공 코팅 시스템의 제조업체 및 운영업체
  • 반도체 생산
  • 유리 코팅
  • 박막 태양광 전지
  • 연구개발
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