Herausragende Leistung
Trocken und energieeffizient, speziell entwickelt für Halbleiter- und Beschichtungsanwendungen
Flexibel
Anpassbare Einstellungen für individuelle Prozessanforderungen
Zertifiziert
Zertifiziert nach SEMI S2 und UL 61010
Technische Ausführung
Märkte und Anwendungen
Flachbildschirmproduktion
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Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD)
Halbleiteranwendungen
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PVD
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Inspektion & Messtechnik
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Metall- & High-k-Ätzen
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Niederdruck-Gasphasenabscheidung (LPCVD)/Diffusion
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Oxid-Ätzen
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Strippen/Veraschung
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ALD
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PECVD
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Glühen
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Poly-Silizium-Ätzen
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Schleusen & Transfer
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Lichtinduzierte Abscheidung
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Ionenimplantation
Dünnfilmbeschichtung
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Laborbeschichtung