Pfeiffer Vacuum

多级罗茨泵

清洁和干燥应用的最佳解决方案

普发真空多级罗茨泵为各种应用和市场提供清洁和干燥的真空环境。
例如,小型 ACP 多级罗茨泵在粒子加速器中创建涡轮分子泵所需的前级真空。具有高抽速和低极限压力的大型 ACP 120 泵可用于冷冻干燥应用。A 100、A3P、A4 或 ADH 系列干式泵在半导体和真空镀膜行业中被大量地用作流程泵。所有这些应用都有一个共同点:它们均需要一个洁净、干燥的真空环境。在这类应用方面,多级罗茨泵技术是完美的解决方案。其无摩擦工作泵送模块在转子和定子之间无需润滑剂和密封材料。所以,可以避免烃类的蒸汽回流。在泵的吸入室,不处理任何密封材料。这意味着泵里没有粒子,长期可靠且稳定,长期成本更低。

在洁净制程中使用多级罗茨泵
ACP 系列的气冷式罗茨多级泵很少需要保养,且其仪稳定的性能与众不同。它们可用于分析仪器以及半导体生产和等离子清洗等洁净制程。A 100 L 和 A 200 L 紧凑型罗茨泵体积小易于集成到系统中。半导体和光伏生产系统的装载互锁与传输室是这种类型泵的典型应用领域。ACP 120 系列带有水冷却的罗茨多级泵的泵心是采用真空压铸工艺制成,结构坚固。 就像罗茨真空泵组 ACG 600 一样,它们被用于需要较高抽速的研发、真空镀膜和冶金行业。

侵蚀性的应用不是问题
A3P 系列的多级罗茨泵是为半导体和光伏生产的中段工艺制程应用而开发,在此类应用中,必须传输少量的腐蚀性气体或冷凝物。该泵是紧凑、高能效的。低噪音和低振动水平是该系列的突出特征。A4 系列泵的抽速可高达 1,800 m3/h,是用防腐材料制成的。介质耐受性以及高气体流通量使这些多级罗茨泵成为半导体行业 CVD 工艺应用的最佳解决方案。ADH 系列专门为太阳能、半导体和 LED 市场的苛刻工艺应用而开发,为N2 和 H2 提供 600 至 4,500 m3/h 的高性能抽速。由于具有优异的抗静态和动态内应力能力,所以泵能提供更强的安全性。

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