Pfeiffer Vacuum

用于严苛型应用的多级罗茨泵

A4 和 ADH 系列的干式工艺泵是半导体、真空镀膜和太阳能行业苛刻工艺制程能耗低性价比高的解决方案。

什么是严苛型工艺?
严苛型工艺举例来说是指半导体和真空镀膜行业中使用的化学工艺。这些工艺要求很高,因为主要在真空下使用和加工侵蚀性和腐蚀性介质。这些介质对处理系统的设计和质量有着最高的要求。典型的严苛型工艺有蚀刻、化学气相沉积 (CVD)、原子层沉积 (ALD) 以及金属有机化学气相沉积 (MOCVD)。

为您的应用选择正确的版本
A4 系列提供两个版本。A4H 泵型号适合于所有非腐蚀性或有限腐蚀性化学工艺。对于极具腐蚀性的应用,A4X 泵型号采用耐腐蚀性材料,以延长其使用寿命及降低其拥有成本。ADH 系列泵是要求高抽速工艺气体 N2 和 H2 的苛刻工艺的合适之选。这些泵可以处理大量的副产物,并为运行易爆性气体(如氢气和硅烷)的应用提供最高水平的安全性。

合适的设备至关重要
由于侵蚀性和腐蚀性化学品用于严苛型工艺,因此真空泵和部件必须耐腐蚀。在半导体和太阳能行业的应用中,粉尘的出现日益频繁,这可能会导致真空泵内存在沉积物。所以,必须要确定工艺中所使用的泵是否能够承受这种粉尘量。为了最好地避免泵里凝结,气体吹扫与复杂的温度管理应结合使用。

适用于严苛型应用的普发真空 A4 工艺泵
凭借 A4 系列,普发真空为半导体和真空镀膜行业最严苛的工艺提供真空解决方案。此系列产品的设计基于干式多级罗茨泵的成熟技术。A4 系列泵具有高颗粒耐受性和抗凝性的特点。其紧凑、模块化的结构可为现有系统集成节省空间。较长的保养间隔和低能耗提供较低的运营成本。

适用于最新工艺应用的高性能 ADH 系列干式泵
ADH 系列专门为太阳能、半导体和 LED 市场的苛刻工艺应用而开发,提供 600 至 4,500 m3/ h 的抽速。该系列泵为太阳能(a-Si 和 μ-Si PECVD)和 LED (MOCVD GaN, AlGaAs, AlGaInP...) 应用提供最佳氢气泵送效率,以及以最低运营成本为半导体应用(ALD、Epitaxy 和 EUV)提供高 H2 抽速。

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