Pfeiffer Vacuum

用于严苛型应用的多级罗茨泵

A4 系列干式流程泵是用于半导体和镀膜行业中苛刻工艺的具有节能和高性价比的解决方案。

什么是严苛型工艺?
严苛型工艺是指在半导体和镀膜行业中使用的化学工艺。这些工艺要求很高,因为主要在真空下使用和加工侵蚀性和腐蚀性介质。这些介质对处理系统的设计和质量有着最高的要求。典型的严苛型工艺有刻蚀和化学气相沉积 (CVD)。

为您的应用选择正确的版本
该系列提供两种版本。A4H 泵型号适合于所有非腐蚀性或有限腐蚀性化学工艺。对于极具腐蚀性的应用,A4X 泵型号采用耐腐蚀性材料,以延长使用寿命及降低成本。

合适的设备至关重要
由于苛刻的工艺中使用侵蚀性和腐蚀性化学品,因此真空泵和部件必须耐腐蚀。对于半导体和镀膜行业中的应用,粉末的出现日益频繁,这可能会导致真空泵内存在沉积物。所以,必须要确定工艺中所使用的泵适合这种粉末量。为了最好地避免泵里凝结,净化气体与复杂的温度管理共同使用。

普发真空为严苛型应用提供工艺泵
凭借 A4 系列,普发真空为半导体和镀膜行业最严苛的工艺提供泵的解决方案。此系列产品的设计基于干式多级罗茨泵的成熟技术。A4 系列泵以高颗粒耐受性和抗凝性来区分。其紧凑、模块化的结构可为现有系统的集成节省空间。较长的保养间隔和低能耗提供低运营成本。

视频

A4 Series 宣传册

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