Die ölfreien Prozesspumpen der XN-Serie sind so konstruiert, dass sie die Anforderungen der meisten korrosiven Prozesse erfüllen. Mit einem Saugvermögen von 600 bis 2.900 m³/h deckt die XN-Serie die Anforderungen der meisten Anwendungen ab, bei denen es auf Korrosionsbeständigkeit ankommt. Die innovative Technologie ermöglicht es, die Wartungshäufigkeit zu reduzieren und die Lebensdauer der Pumpen zu erhöhen. Betriebskosten und Ausfallzeiten werden erheblich reduziert. Pumpen der XN-Serie sind mit Pumpen anderer Baureihen vollständig kompatibel.

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Die HiScroll Serie besteht aus drei ölfreien und hermetisch dichten Scrollpumpen mit einem nominellen Saugvermögen von 6 – 20 m3/h. Die Pumpen zeichnen sich insbesondere durch ihre hohe Leistung beim Evakuieren gegen Atmosphäre aus. Ihre leistungsstarken IPM*-Synchronmotoren erzielen einen bis zu 15% höheren Wirkungsgrad in Vergleich zu konventionellen Antrieben.

Das integrierte zweistufige Gasballast- sowie das Rückschlagventil gewährleisten einen prozessspezifischen und sicheren Betrieb.
HiScroll-Pumpen lassen sich über RS-485 oder ProfiNet ganz einfach mit anderen Produkten von Pfeiffer Vacuum wie z.B. Turbopumpen oder Anzeige- und Steuereinheiten sowie mit einer übergeordneten externen Steuerung verbinden. Die Schnittstelle ermöglicht die Regulierung der Drehzahl, eine situativen Steuerung des Lüfters sowie die Überwachung der Pumpleistung. Dies trägt zur Minimierung von Verschleiß und Schallemission bei und sorgt für längere Wartungszyklen.

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In der Halbleiterproduktion herrschen reinste Bedingungen im Hoch- und Ultrahochvakuumbereich. Zuverlässiges und hochwertiges Vakuumequipment ist hier ein Muss.

Eine typische Halbleiter-Fab besteht aus vier Ebenen. Im oberen Bereich, dem Reinraum, befinden sich die Fertigungsanlagen und Spezialanlagen für das Kontaminationsmanagement. In der Ebene unter dem Reinraum – dem Subfloor – befinden sich die Trockenläufer zur Evakuierung von Schleusen und Transferkammern. Eine Etage darunter sind die Kühlmaschinen, Stromversorgungen und RF- Generatoren für die Anlagen. Im Untergeschoss sind trockene Pumpen sowie die Abgasaufbereitung (Abatement) installiert.

Erleben Sie unsere Lösungen für Halbleiter-Produktionsanlagen – in 3D und mit 360° Perspektive! Klicken Sie sich durch die einzelnen Ebenen und Bestandteile unseres Halbleiter-Fab-Models und erfahren Sie, welche Produkte Pfeiffer Vacuum für die unterschiedlichen Anforderungen bietet!

Kompakte, tragbare Benchtopgeräte zur Gasanalyse bei Atmosphärendruck. Sie finden insbesondere bei chemischen Prozessen, in der Halbleiterindustrie, Metallurgie, Fermentation, Katalyse, Gefriertrocknung und bei der Umweltanalyse Anwendung.

Die niedrige Nachweisgrenze von (je nach Massenbereich) bis zu <100 ppb, der geringe Gasverbrauch von 1 - 2 sccm und die schnelle Messzeit (bis zu 1 ms/u) zeichnen die neuen Analysegeräte aus.

Bis zu 90.000 Umdrehungen pro Minute, beinahe Schallgeschwindigkeit am Außenradius, Vakuumbedingungen bis zu 10 ^-11 mbar — unsere Turbopumpen überzeugen mit Leistungsfähigkeit und Zuverlässigkeit.

Begleiten Sie die Gasmoleküle in 3D auf ihrer Reise durch die Turbopumpe und lernen Sie das Funktionsprinzip und den Aufbau der HiPace von Pfeiffer Vacuum kennen!

Werfen Sie einen Blick ins Innere der Wälzkolbenpumpe von Pfeiffer Vacuum! Im 3D-Schnittmodel lernen Sie die Bestandteile der Pumpe kennen und folgen den Gasmolekülen auf ihrem Weg durch die OktaLine.

Erfahren Sie mehr über das Funktionsprinzip und das Wälzkolbendesign.

Leicht, kompakt, leistungsstark — die Drehschieberpumpen der DuoLine von Pfeiffer Vacuum sind die kleinsten in ihrer Saugvermögensklasse auf dem Markt.

Lernen Sie das Design der Pumpe kennen und verfolgen Sie die Moleküle auf ihrem Weg in 3D!